Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV GSD-HE #9163722 à vendre en France
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ID: 9163722
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
High energy implanter, 8"
Wafer type: Notch
Vaccum system:
Cryo compressor: CTI 9600, CTI 8500
Beamline cryo pump 1: OB8 (P2)
Beamline cryo pump 2: OBIO (P3)
AMU Turbo pump: TMP1000 (P8)
Terminal rough pump: EBARA
LINAC Rough pump: EBARA
Endstation rough pump: EBARA
Vacuum controller: HCIG
IG3: Ion gauge
Endstation info:
(4) Cassettes
Dummy wafer: Integrated "Dummy wafer" Fill-In capability
Wafer handling system: In-Air / In-Vacuum high throughput
Particle filter system: Class 1, UPLA Filtered
Implant angle capability: Two axis variable implant angle (+/-11 deg in two axes) (Quad)
Process disk spindle: GSD series process disk (installed )
Beam monitoring system: Real-time patented Dose Control
Process Disk: Non silicon coated process disk
Process disk cooling interlock: Yes
Terminal info:
Gas box option: Modular gas box / Four string gas box options
Extraction PS: 90KV
Extraction voltage monitor: Yes
Ion source: ELS Type
Extraction electrode: (3) Axis extraction electrode (Sen type)
AMU system: Triple indexed mass analysis magnet and power supply
Injector faraday: Injector flag faraday
Dry transformer
LINAC and FEM:
(10) Power supplies: 3kW 13.56 MHz
(10) High energy resonator cavitites and electrodes
(5) Upgraded quadrupole lens assemblies and power supplies
Resolving faraday: Yes
Double indexed final energy magnet (FEM) and power supply: Yes
Charge control technology (SEF - Secondary electron flood): No
SVR: No
Closed-Loop cooling system selection:
Cooling system: Sen type
Disk chiller: Sen type
General Info:
Main isolation transformer: Yes
Smoke detector: Yes
Exhaust flow switch: Yes
Light tower: Yes
Currently de-installed
2000 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD-HE est un implant et un moniteur d'ions ainsi qu'un équipement entièrement intégré, conçu pour implanter des ions dopants dans des substrats semi-conducteurs. Ce système polyvalent utilise des systèmes de surveillance de haute technologie pour garantir précision et précision, permettant une large gamme de profils d'implantation. Il est conçu pour répondre aux exigences technologiques les plus avancées pour les projets d'implantation de pointe, avec la capacité de fournir des remplacements constants de haute qualité. AXCELIS NV GSD HE fonctionne en deux modes, I = V et haute tension impulsionnelle. Les conditions optimales pour chaque application sont déterminées par le préampli à faible bruit et le moniteur de position du faisceau dans EATON NOVA NV-GSD HE. Ces moniteurs utilisent une variété de dispositifs contrôlés par rétroaction, y compris des moniteurs de courant de faisceau, des alimentations à haute tension et un analyseur de masse ionique. Cela permet un contrôle complet des profils d'implantation, avec une excellente stabilité de la poutre et un contrôle de la poutre pour la plupart des opérations frontales de Wafer. L'unité utilise une variété d'options de programmation avancées pour contrôler avec précision l'implantation. Ces caractéristiques de programmation comprennent : la direction du faisceau réglable, le courant, la tension, la polarisation et la sélection de l'énergie - ainsi que l'incorporation de sources d'ions de haute pureté de précision. La source d'ions est achetée séparément. Il comprend également la synchronisation numérique et la conversion analogique-numérique programmable, permettant un étalonnage rapide et facile des protocoles de traitement. La machine EATON NOVA NV-GSD-HE est conçue dans un souci de sécurité, avec un outil de surveillance électronique de la santé et un arrêt d'urgence qui protègent le personnel des rayonnements ou d'autres dangers. L'actif est également équipé de la charge supérieure de la ligne et de la stabilité de la source d'ions, ainsi que des technologies de réduction des interférences du faisceau. Le diagnostic intégré permet aux utilisateurs de dépanner les erreurs de traitement et d'identifier les problèmes rapidement et facilement. EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD HE fournit des données actuelles et exactes, permettant aux utilisateurs de déterminer les résultats de l'implantation et de faire des ajustements au besoin. Ses capacités de programmation avancées garantissent des résultats d'implantation de haute qualité, et ses caractéristiques de sécurité assurent la sécurité du personnel. Ce modèle est le choix parfait pour toute tâche d'implantation, avec sa combinaison de haute performance et de fiabilité.
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