Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV GSDIII LE #9083650 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS NV GSDIII LE implant et moniteur ionique est un outil sophistiqué qui aide à délivrer des doses d'ions précisément contrôlées dans les matériaux afin de modifier leurs propriétés physiques. Ce procédé est couramment utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour la fabrication de dispositifs. AXCELIS NV GSDIII LE utilise une source d'ions pour générer des ions. Ces ions sont ensuite accélérés et analysés en masse pour créer une propagation d'énergie en fonction de la dose et de l'énergie d'implant souhaitées. De plus, le GSDIII LE est conçu avec un design multi-chambres qui améliore encore la précision et la précision pendant le processus d'implantation. Le GSDIII LE est équipé d'instruments de surveillance de pointe. Ces moniteurs sont conçus pour détecter les changements mineurs de température, de tension et de courant - qui peuvent tous affecter la qualité du processus d'implantation ionique. Les systèmes de contrôle analogique et numérique sont précis et précis pour s'assurer que tous les processus se déroulent de la manière exacte prévue. En plus de fournir un contrôle et une précision supérieurs, EATON NOVA NV GSDIII LE fournit également des doses réglables. Cela lui permet de répondre pleinement aux exigences de diverses applications de semi-conducteurs. La large gamme de débits de dose permet des calendriers d'implantation optimaux pour différentes conceptions de puces. En outre, en utilisant la construction modulaire, ce système est facilement personnalisable pour répondre aux besoins uniques de l'utilisateur. NV GSDIII LE dispose également d'une variété de caractéristiques de sécurité afin d'assurer la protection des utilisateurs. Ces caractéristiques comprennent des boucliers de protection pour réduire l'exposition au laser et au faisceau d'ions, ainsi qu'une multitude d'interactions de sécurité. En outre, la conception comprend également une hotte de fumée de maintenance pour évacuer les fumées générées par le processus d'implantation ionique. EATON NOVA/AXCELIS NV GSDIII LE est un outil fiable et complet pour l'implantation et la surveillance des ions. Ses systèmes de contrôle sophistiqués, ses débits de dose réglables et ses caractéristiques de sécurité en font un choix idéal pour divers dispositifs semi-conducteurs. De plus, sa construction modulaire et sa facilité de personnalisation en font un appareil polyvalent pour de nombreuses applications.