Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV GSDIII LE #9083651 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS NV GSDIII LE est un outil et un moniteur d'implantation ionique utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Le dispositif assure un contrôle précis des paramètres d'implantation afin d'obtenir des résultats de grande précision. L'équipement est capable de contrôler avec précision les courants de faisceau, l'énergie, les espèces d'implants et les profils de profondeur pour produire des structures optimales pour les applications des dispositifs. Le système se compose d'une alimentation haute tension, d'un amortisseur, d'un étaleur et d'un séparateur, ainsi que d'une cage cible, d'une unité de distribution de gaz, d'un générateur RF, d'un obturateur, d'un moniteur et d'un régulateur de température/pression. Cela garantit un environnement optimal pour les processus d'implantation. L'alimentation est capable de fournir jusqu'à 1000 kW de puissance avec une large gamme de régulation de tension. Ceci permet une accélération rapide du faisceau ionique et un contrôle précis de la surface de l'implant. Les modules amortisseur et écarteur contrôlent les propriétés du faisceau entrant et aident à minimiser la variabilité des processus résultant de l'instabilité incontrôlable des sources. Le module séparateur élimine efficacement les doubles ions indésirables et réduit la contamination des matériaux implants. La cage cible maintient le dispositif à implanter et est réalisée en un matériau rigide pouvant supporter des températures et des pressions élevées. La machine de distribution de gaz fournit un environnement uniforme pour le processus d'implantation ionique. Le générateur RF contrôle le transport d'ions lourds de la source à la cible. Le module d'obturation ajuste les niveaux de lumière dans la zone de l'implant et minimise les interférences avec un processus d'implantation. Le moniteur surveille en permanence la plaquette implantée pour s'assurer des performances adéquates. Le régulateur de température/pression peut maintenir une température et une pression précises dans l'environnement cible, ce qui permet d'obtenir des résultats d'implantation optimaux. AXCELIS NV GSDIII LE est un outil puissant et précis pour l'implantation et la surveillance des ions. Utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs, ce dispositif est capable de fournir des résultats fiables avec une interruption minimale. Son contrôle précis des paramètres de l'implant assure une bonne structure du dispositif de traitement. Cet outil permet un processus d'implantation fiable et efficace, contribuant à augmenter la productivité et la qualité.