Occasion EATON NOVA / AXCELIS Optima HDX #9262048 à vendre en France

EATON NOVA / AXCELIS Optima HDX
ID: 9262048
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2012
Ion implanter, 12" 2012 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS Optima HDX est un implanteur et moniteur d'ions à haute énergie et à forte dose. C'est la solution idéale pour implanter des ions de différentes énergies et doses à haute précision et précision. AXCELIS Optima HDX peut être utilisé pour diverses applications telles que la fabrication de semi-conducteurs et de MEM (Micro Electro-Mechanical Systems), l'implantation de nouveaux matériaux et la métallisation de substrats. EATON NOVA Optima HDX comprend trois composants principaux : un implanteur ionique, un système de contrôle et de contrôle et un appareil photo numérique haute résolution. L'implanteur utilise une optique magnétique avancée qui permet un processus d'implantation ionique à haut courant et à haute énergie. Il dispose également d'une large gamme dynamique et d'une grande précision, permettant l'implantation de différents ions avec différentes énergies et doses. Le système de surveillance et de contrôle dispose d'une plate-forme numérique en boucle fermée, avec une variété de capteurs et de boucles de rétroaction, garantissant que tous les paramètres d'implantation peuvent être ajustés et contrôlés avec précision. Le moniteur comprend également une interface utilisateur avancée qui permet de régler facilement les paramètres d'implantation. Ceci assure la précision pendant le processus d'implantation. Optima HDX comprend également un appareil photo numérique haute résolution. Ceci est utilisé pour surveiller le processus d'implantation. La caméra fournit aux opérateurs des images détaillées du processus d'implantation, ce qui permet un meilleur contrôle du processus d'implantation. EATON NOVA/AXCELIS Optima HDX est un implant ionique et un moniteur efficaces et fiables qui garantissent une implantation cohérente et précise. Il dispose d'une variété de caractéristiques qui permettent de contrôler le processus avec précision et précision. Il est adapté à un large éventail d'applications d'implantation, ce qui en fait un choix polyvalent pour la fabrication avancée de semi-conducteurs et de MEM.
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