Occasion EATON NOVA / AXCELIS Optima HDxT #9115399 à vendre en France

ID: 9115399
Style Vintage: 2011
Ion implanter, 12" SRA, PFG Source Manipulator XT (EVAL) Bushing source flange adapter Source turbo exhaust line Chamber liner Spare beam tunnel Roughing pumps: EDWARDS IGX100L EDWARDS iGX100M EDWARDS iGX600M Cryo pumps: (2) BROOKS 320FE BROOKS 250FE Turbo pumps: TP1: EDWARDS STP-XA2703CV TP2: EDWARDS STP-A1303CV Chillers: AFFINITY J Chiller GWN-ZRMK-BE55CBS6 AFFINITY F-Series FWA-032K-DD19CBD4 (2) BROOKS IS-1000 Cryo compressors 2011 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS Optima HDxT est un implant et un moniteur ionique hautement performants et fiables. Il est conçu pour assurer une implantation cohérente et répétable d'ions dans des substrats semi-conducteurs tels que des plaquettes de silicium. Le haut débit de cet équipement supporte des capacités de traitement des semi-conducteurs qui sont cruciales pour de nombreuses applications technologiquement avancées. Il offre une excellente flexibilité pour le traitement de substrats de différentes tailles et matériaux, et sa conception avancée des sources d'ions garantit un haut degré de répétabilité et de précision dans le processus d'implantation. AXCELIS Optima HDxT utilise une conception de source d'ions bipolaires, ce qui permet d'adapter le système pour une utilisation avec une grande variété d'espèces d'ions, y compris As, P, B, et d'autres. Il supporte également une variété d'énergies, y compris l'implantation à faible énergie ainsi que l'implantation ionique à haute énergie (HEII). Utilisant une puissante unité de transport de poutres, la machine est capable de réaliser des implantations de haute précision ainsi que de maintenir un haut degré d'uniformité dans le substrat résultant. Pour garantir une précision d'implantation précise, EATON NOVA Optima HDxT dispose également de capacités de régulation de température avancées. Optima HDxT dispose également de systèmes avancés de contrôle des processus et de diagnostic, ainsi que de fonctionnalités avancées d'analyse intégrée et de génération de rapports. Grâce à son contrôle avancé des processus, les utilisateurs peuvent facilement surveiller et gérer leurs paramètres de processus tout au long du processus d'implantation, y compris l'énergie d'implantation ionique, le courant, la taille du faisceau, etc. En outre, l'outil supporte également des routines complètes d'étalonnage et de diagnostic, permettant des capacités d'acquisition et d'analyse de données inégalées. De plus, EATON NOVA/AXCELIS Optima HDxT comprend également un actif de surveillance intégré avancé qui permet aux utilisateurs de surveiller et d'ajuster les paramètres lors de chacune des étapes du processus d'implantation. Ce modèle permet non seulement d'assurer une précision d'implantation précise, mais aussi d'optimiser facilement le processus pour les besoins spécifiques d'une application. Enfin, l'équipement comprend également un ensemble complet de dispositifs de sécurité intégrés qui contribuent à assurer la sécurité et la fiabilité du processus. En résumé, AXCELIS Optima HDxT est un implant et un moniteur ionique hautement performants et fiables. Il supporte une variété d'espèces et d'énergies ioniques, dispose de systèmes avancés de régulation de la température et de contrôle des processus, et utilise un ensemble complet de fonctions de diagnostic et de sécurité intégrées. Grâce à son système de moniteur avancé et à ses routines d'étalonnage et de test conviviales, EATON NOVA Optima HDxT offre une précision d'implantation, une répétabilité et une uniformité fiables pour une large gamme d'applications de traitement de semi-conducteurs.
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