Occasion EATON NOVA / AXCELIS Paradigm XE #9241171 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XE est un implant et un moniteur d'ions avancés qui supporte les processus d'implantation et de cueillette d'ions pour un large éventail d'applications semi-conductrices et connexes. Utilisant une technologie innovante, AXCELIS Paradigm XE offre une gamme de fonctionnalités qui garantissent une implantation ionique précise et cohérente. EATON NOVA Paradigm XE offre un système d'im-plantation efficace grâce à sa technologie avancée de contrôle de la contamination. Le module de filtration à haut rendement utilise la technologie de rétention des particules pour assurer la propreté du plasma et des gaz de traitement en éliminant efficacement les particules et les contaminants résiduels des gaz de la chambre de traitement. La source de plasma cylindrique sophistiquée fournit une uniformité accrue du faisceau d'ions et fournit un courant linéaire élevé qui permet le contrôle précis des profils d'impuretés. Le Paradigm XE avancé dispose également d'une technologie de contrôle informatique avancée pour une précision maximale du recouvrement du faisceau ainsi que le placement précis des impuretés dans le matériau du substrat. Les composants de configuration flexibles d'EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XE garantissent la compatibilité avec divers types de configurations de plaquettes ainsi qu'une multitude d'autres composants, y compris des déflecteurs spatiaux à axes variables, des barres de dénudage, des linéaires d'étages de sortie et des sources magnétron DC. De plus, le logiciel de diagnostic embarqué permet une configuration rapide des paramètres d'implantation et permet un contrôle complet de l'appareil. Le modèle avancé AXCELIS Paradigm XE offre également une suite de surveillance du traitement des matériaux qui comprend un tracé exhaustif de la résistivité et de l'uniformité du substrat. Il fournit également l'acquisition automatisée de données et la génération de graphes pour suivre plusieurs paramètres d'implantation d'ions au fil du temps. EATON NOVA Paradigm XE fournit un système d'implantation efficace pour une grande variété d'implantations ioniques et de processus connexes. Sa technologie innovante contribue à maximiser la précision et l'efficacité de l'équipement tout en fournissant des chambres de processus propres avec une uniformité améliorée des faisceaux et un contrôle précis des profils d'impuretés. De plus, les composants de configuration flexibles et la suite de surveillance assurent la compatibilité et les données de surveillance pour offrir une précision maximale d'implantation.