Occasion EATON NOVA / AXCELIS Paradigm XE #9241296 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XE est un implant ionique et un moniteur conçu pour assurer une implantation ionique précise et précise. AXCELIS Paradigm XE est un implant et un moniteur ionique haute performance qui offre une flexibilité et une efficacité optimales pour une variété de procédés semi-conducteurs. Il est idéal pour le contrôle de la production avec des tailles de plaquettes de 300 mm, avec une tension d'accélération maximale de 80 keV. EATON NOVA Paradigm XE dispose d'un équipement multifaisceaux unique pour une répartition uniforme des particules sur les surfaces des plaquettes. Cela est obtenu par l'utilisation d'un minimum de huit poutres individuelles de canon d'implantation. Chacun de ces faisceaux dispose d'un mécanisme d'entraînement distinct, qui permet à l'utilisateur de contrôler avec précision l'intensité du faisceau et la vitesse de balayage avec la pleine plage de réglage. De plus, un large éventail de commandes de processus avancées, telles que la commande de faisceau ultra-pas, sont disponibles avec ce système. Paradigm XE est conçu avec une variété de caractéristiques de sécurité et d'environnement. L'unité est conçue pour répondre aux normes les plus strictes en matière d'émissions de particules et est conforme aux normes actuelles de l'industrie. L'unité utilise également des mécanismes avancés de filtration et d'interaction de sources limitées. La clé de la performance et du succès d'EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XE est le paquet électronique intégré. Cet ensemble comprend une unité de contrôle d'implantation répétable avancée ainsi qu'une gamme de systèmes de surveillance et d'optique. La machine de transport électronique intégrée est conçue pour garantir les résultats les plus efficaces, tandis que l'outil de surveillance optique fournit un retour en temps réel à l'utilisateur. Globalement, AXCELIS Paradigm XE est un implant ionique avancé et un moniteur conçu pour fournir des performances optimales. En utilisant la technologie de faisceau de particules la plus récente, l'unité assure des résultats cohérents et précis, tout en offrant une large gamme d'options de contrôle de processus. L'ensemble électronique intégré garantit des performances d'implantation fiables et répétables, tandis que les mécanismes de filtration avancés assurent des niveaux d'émission de particules faibles. En bref, EATON NOVA Paradigm XE est une solution haute performance idéale pour les applications semi-conductrices.