Occasion EATON NOVA / AXCELIS Paradigm XE #9290830 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS Paradigm XE est un implant ionique et un moniteur développé pour la fabrication de semi-conducteurs. C'est un équipement performant et peu coûteux qui combine des faisceaux ioniques à basse et moyenne énergie avec des capacités de surveillance de faisceau ionique à haute résolution. Le système est conçu pour remplir une variété de fonctions dans le processus d'implantation d'ions, y compris les mesures d'uniformité du faisceau d'ions, la surveillance du faisceau, la mesure du courant du dispositif, le contrôle de la température et la mesure de la profondeur d'implantation. L'implanteur ionique AXCELIS Paradigm XE dispose d'une unité de commande avancée du faisceau, qui permet un positionnement précis des particules et un contrôle précis des paramètres d'implantation. La machine a un courant maximal de plus de 1000 A/cm2, avec des longueurs de balayage réglables pour une implantation uniforme sur de grandes surfaces. Cela rend l'outil adapté à une gamme d'applications, y compris les jonctions ultra-peu profondes et l'implantation en vrac. Le moteur d'EATON NOVA Paradigm XE se compose d'une source d'ions, d'un accélérateur électrostatique, d'un ioniseur, de filtres à faisceaux et d'un actif de surveillance des faisceaux. La source d'ions produit des ions d'un large éventail d'énergies, y compris, par exemple, de l'arsenic et du phosphore à des énergies allant jusqu'à 500 KeV. Les ions sont guidés à travers l'accélérateur électrostatique, où ils sont accélérés puis émis de l'ioniseur dans un faisceau de taille et de forme précises. Le modèle de surveillance des faisceaux permet d'optimiser les paramètres d'implantation afin d'obtenir des profondeurs d'implantation uniformes. L'équipement est équipé d'un système de surveillance numérique avancé (DMS), qui assure la surveillance simultanée en temps réel de toutes les plaquettes implantées, ainsi que l'analyse en temps réel des données d'implantation. Le DMS fournit des superpositions précises, permettant de comparer différentes étapes d'implantation ou lots de plaquettes. L'unité offre également une configuration de configuration améliorée, ce qui permet aux utilisateurs de configurer la machine avec des balayages de faisceau personnalisés ou même plusieurs faisceaux. Paradigm XE est un outil idéal pour l'implantation de tous les types de dispositifs semi-conducteurs. L'outil fournit des faisceaux ioniques haute résolution, basse énergie et moyenne énergie avec des capacités de contrôle de faisceau améliorées. L'actif est capable de remplir diverses fonctions dans le processus d'implantation d'ions, y compris la mesure de l'uniformité du faisceau d'ions, la surveillance du faisceau, la mesure du courant du dispositif, le contrôle de la température et la mesure de la profondeur d'implantation. Son modèle de moniteur numérique permet une surveillance simultanée en temps réel de toutes les plaquettes implantées et une analyse approfondie des données d'implantation.