Occasion EATON NOVA / AXCELIS Paradigm #9235773 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS Paradigm est un implant ionique robuste et fiable et un moniteur conçu pour améliorer l'implantation ionique et le bombardement ionique de précision. Il combine un équipement d'implantation d'ions de moyenne énergie (30-60keV) hautement efficace et fiable avec un système de surveillance complet. Il est conçu pour éliminer les contaminants indésirables du faisceau, minimiser les contaminations de la chambre de sous-produit et optimiser le mouvement du faisceau. AXCELIS Paradigm dispose d'une chambre d'implant cylindrique unique. Cette chambre cylindrique a réduit les niveaux d'impuretés hors axe, augmenté l'uniformité de l'intensité du faisceau et amélioré le traitement de surface de l'échantillon. Cela permet un bombardement ionique précis avec une efficacité accrue. L'unité Paradigm EATON NOVA fournit également une alimentation à haute tension fiable et stable, ce qui garantit que l'échantillon reçoit la bonne tension d'implantation sans fluctuation. Il comprend une source d'ions avec une lentille symétrique circulaire qui assure une implantation uniforme et une contamination minimale du faisceau. Une grille d'extraction gravée assure la propreté des faisceaux et le filtre magnétique assure la purification du faisceau. La machine de surveillance avancée utilise une interface informatique frontale intégrée pour afficher les paramètres d'exécution pour surveiller les performances de l'outil. Cela permet d'ajuster les conditions d'implantation afin que l'actif soit en contrôle et fonctionne correctement. Paradigm utilise également des structures de boîtes à gaz et une capacité de vide intelligente pour minimiser toute contamination dans la chambre de bombardement ionique. Le modèle de vide peut être ajusté à la pression partielle optimale pour différents matériaux et est essentiel pour obtenir une énergie de faisceau précise. EATON NOVA/AXCELIS Paradigm est un dispositif avancé et fiable d'implantation et de surveillance d'ions, fournissant une implantation uniforme avec une contamination minimale. Sa conception de chambre cylindrique assure un positionnement précis des faisceaux et des résultats reproductibles, tandis que son équipement de surveillance sophistiqué permet une surveillance et un contrôle en temps réel de tous les paramètres de fonctionnement. AXCELIS Paradigm est idéal pour l'implantation d'ions de moyenne énergie et offre des performances exceptionnelles dans le dépôt de précision de films ultra minces.