Occasion IBS MAXion #293808794 à vendre en France
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ID: 293808794
Taille de la plaquette: 6"-8"
Ion implanter, 6"-8"
Source lifetime: > 1050 h
Silicon: 210 keV
Substrate size: 4"-8"
Tilt: 0-7°
Uniformity: ≤ 0.5 %
IHC Source
High throughputs: 3 / 5 Cassettes
Temperature control: <75°C.
IBS AGRI ion est un équipement d'implantation et de surveillance ionique de pointe développé par IBS Precision Engineering, un fournisseur leader de solutions technologiques et de fabrication de précision. Ce système avancé est conçu pour répondre aux exigences exigeantes de l'industrie des semi-conducteurs pour les procédés d'implantation ionique utilisés dans la fabrication de circuits intégrés. L'unité d'implantation et de surveillance de l'ion Agri-ion intègre une technologie de pointe et des fonctionnalités innovantes pour fournir des performances exceptionnelles d'implantation ionique et des capacités de contrôle des processus. Il est équipé de composants de haute qualité et d'algorithmes avancés pour garantir la précision, la fiabilité et l'efficacité dans les processus d'implantation ionique. L'une des principales caractéristiques de la machine IBS est sa technologie avancée de source d'ions, qui permet la génération de faisceaux d'ions très énergétiques avec un contrôle précis de l'énergie, du courant et de la distribution du faisceau. L'outil est capable d'implanter un large éventail d'espèces d'ions avec une grande précision et cohérence, permettant le dopage précis et la modification des matériaux semi-conducteurs au cours du processus de fabrication. L'atout de l'ion est également doté d'une conception de ligne de faisceau sophistiquée qui minimise la divergence de faisceau, réduit les pertes de faisceau et améliore la qualité du faisceau, ce qui améliore l'uniformité de l'implantation et la répétabilité des processus. Le modèle est équipé d'outils avancés de diagnostic et de surveillance des faisceaux pour garantir une performance optimale des faisceaux et un contrôle des processus tout au long du processus d'implantation ionique. En plus de sa technologie avancée de source d'ions et de transmission de faisceaux, l'équipement IBS de l'infrastructure est intégré à une interface de contrôle conviviale et à une plate-forme logicielle qui permet un fonctionnement facile, une surveillance en temps réel et l'analyse des données. Le système offre des capacités complètes de visualisation des processus, d'enregistrement des données et de gestion des recettes afin d'optimiser les paramètres des processus, d'améliorer la productivité et d'assurer des résultats d'implantation cohérents. Cette unité est conçue pour la flexibilité et l'évolutivité, permettant une intégration facile dans une large gamme d'environnements de production de semi-conducteurs. Il peut être configuré avec plusieurs sources d'ions, configurations de lignes de faisceau et systèmes de vide pour répondre à différentes exigences d'implantation et spécifications de processus. En outre, la machine IBS de l'IBS est conçue avec robustesse et fiabilité à l'esprit, avec des composants de haute qualité, des caractéristiques de sécurité avancées, et des mesures de contrôle de qualité rigoureuses pour assurer la performance à long terme et la stabilité opérationnelle. L'outil est conçu à l'opération continue 24/7, avec les exigences d'entretien minimales et le temps d'arrêt pour maximiser la productivité et le temps de fonctionnement. En conclusion, l'implant et l'actif de surveillance d'ions de l'ion de l'ion de l'ion de l'ion représente une solution de pointe pour les processus d'implantation d'ions dans l'industrie des semi-conducteurs. Grâce à sa technologie de pointe, à ses performances de précision, à son interface conviviale et à sa conception robuste, le modèle IBS AGRI offre aux fabricants une solution fiable et efficace pour obtenir des résultats d'implantation ionique de haute qualité dans la fabrication de circuits intégrés.
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