Occasion KLA / TENCOR / THERMA-WAVE ThermaProbe 420 #9315382 à vendre en France

KLA / TENCOR / THERMA-WAVE ThermaProbe 420
ID: 9315382
Style Vintage: 1993
Ion implanter Open handler, 8" 1993 vintage.
KLA/TENCOR/THERMA-WAVE ThermaProbe 420 est un implanteur et un moniteur d'ions évolués et polyvalents conçu pour fournir un traitement propre et précis du matériau semi-conducteur. Le dispositif est conçu pour répondre aux besoins des applications de haute précision telles que la fabrication de puces, ainsi que des applications plus exigeantes comme MEMS et la fabrication de nanotechnologies. Cette machine multifonctionnelle est capable d'implanter des ions dans des zones prédéfinies de substrats semi-conducteurs, ainsi que de surveiller avec précision le processus. Au cœur de KLA ThermaProbe 420 se trouve une source d'ions de haute qualité qui produit des ions singulièrement chargés avec une grande précision spatiale et un débit de dose uniforme. La source d'ions est constituée d'un port, qui peut être configuré pour produire des ions positifs ou négatifs. Les ions sont générés par une combinaison de processus électriques, chimiques et thermiques, assurant une implantation propre et uniforme. L'appareil est encore amélioré avec des logiciels et du matériel de pointe. Avec des capacités de diagnostic et de surveillance intégrées, il est capable de contrôler avec précision la dose et l'enrichissement des ions afin d'obtenir les propriétés souhaitées dans le substrat. Il comprend également un système d'analyse du spectre d'émission, qui enregistre et affiche les différents éléments présents dans le substrat, permettant aux ingénieurs d'ajuster les paramètres pour un meilleur contrôle. TENCOR THERMA-PROBE 420 est très flexible, fournissant des paramètres de source programmables tels que la gamme d'énergie, la longueur et la fréquence des impulsions, la densité de courant, les conditions de gravure, la largeur et l'intensité du faisceau, et plus encore. Ceci permet à l'utilisateur d'adapter précisément le procédé d'implantation pour obtenir les propriétés souhaitées au sein du substrat, ou pour simuler un procédé particulier. Le dispositif comporte également un filtre de masse, qui permet le réglage des énergies ioniques, séparant des ions de différentes masses au sein du faisceau implant. Cette séparation permet de contrôler l'épaisseur et l'homogénéité de la couche implantée, ainsi que d'affiner le débit de dose ionique pour des résultats précis. THERMA-PROBE 420 permet une utilisation simple et précise sans sacrifier la précision. C'est un outil exceptionnel pour toute application semi-conductrice, ainsi que des applications de niche plus spécialisées. Avec une grande précision, un contrôle détaillé des processus et des mécanismes de sécurité, c'est une plate-forme fiable pour un large éventail d'applications.
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