Occasion NISSIN Exceed 2000 #293748708 à vendre en France

NISSIN Exceed 2000 est un équipement avancé d'implantation et de surveillance des ions largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est adapté à une large gamme de paramètres et d'applications de faisceau d'ions, offrant des performances précises, fiables et répétables. Plus de 2000 est un implanteur d'ions pulsés de haute puissance, capable de délivrer jusqu'à 20kV d'énergie d'implant avec des courants de faisceau jusqu'à 500mA. Il a une empreinte compacte avec une fenêtre de sortie variable, ce qui permet une mise en œuvre technique flexible et un contrôle de processus amélioré. Le système comprend un angle de faisceau variable, un angle de balayage réglable et un étalement d'énergie variable. La chambre est équipée d'un balayage d'énergie variable pour contrôler précisément la propagation de l'énergie et d'un intervalle d'impulsions variable pour optimiser les conditions d'implantation. NISSIN Exceed 2000 a intégré des systèmes de vide et de réfrigérant pour le fonctionnement efficace et la protection des composants sensibles. Il est également livré avec une unité de contrôle avancée qui fournit des niveaux élevés de précision et de répétabilité. La machine est conçue pour assurer un rendement et une fiabilité maximaux grâce à l'optimisation du débit de dose, de la pression et du fonctionnement de la chambre. Un outil de vision à grande vitesse est intégré à l'actif pour fournir une imagerie précise et une analyse active des entrées et des sorties. Plus de 2000 bénéficie d'un ensemble complet d'outils diagnostiques qui permettent des opérations diagnostiques faciles et efficaces. Le logiciel comprend un ensemble complet d'outils de suivi des processus qui peuvent être configurés pour fournir aux utilisateurs la caractérisation des processus et le débogage. Plusieurs fonctionnalités avancées telles que l'outil « Data Pre-Conditioner » permettent de mieux comprendre le processus de performance. NISSIN Exceed 2000 est un modèle avancé d'implantation et de surveillance des ions qui fournit des résultats fiables et reproductibles avec un haut niveau de précision et de contrôle. C'est un choix idéal pour les applications et les procédés semi-conducteurs.