Occasion NISSIN Exceed 2000 #9221084 à vendre en France

NISSIN Exceed 2000 est un implant et un moniteur ionique utilisé pour fournir une solution fiable et polyvalente d'implantation ionique pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. En effet, des ions sont accélérés et implantés sur un matériau tel que le silicium pour modifier ses caractéristiques électriques. Plus de 2000 se compose de quatre composantes principales : la source d'ions, la ligne de faisceau, la station d'extrémité, et le moniteur. La source d'ions se compose de deux chambres distinctes, une source d'ions métalliques et une source d'ions gazeux. La source d'ions est reliée à la ligne de faisceau, qui consiste en un ensemble d'aimants pour la flexion et la focalisation du faisceau. Le poste d'extrémité est utilisé pour délivrer les ions à une surface de substrat. Le moniteur est utilisé pour surveiller et contrôler le faisceau pendant le fonctionnement. NISSIN Exceed 2000 peut être programmé pour effectuer un large éventail de processus d'implantation, des implants à un seul niveau aux implants à haut courant à niveau mixte. Il a un haut degré de contrôle de faisceau et peut fonctionner avec une énergie de faisceau allant de 1 keV à 25 keV et un courant de faisceau allant de 1 mA à 120 mA. En outre, Exceed 2000 dispose d'un certain nombre de dispositifs de sécurité, tels que la capacité de détecter les interruptions de faisceau et l'arrêt automatique. NISSIN Exceed 2000 est un outil puissant et fiable pour l'implantation ionique, et il a été largement utilisé dans diverses applications, telles que la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et la production d'isotopes médicaux. Ses caractéristiques en font un excellent choix pour ceux qui ont besoin d'une technologie avancée et fiable.