Occasion NISSIN Exceed 3000 #9393124 à vendre en France

NISSIN Exceed 3000 est un implant et un moniteur ionique haute performance développé par NISSIN Corporation, des producteurs renommés de machines et d'équipements de fabrication de semi-conducteurs. Il offre une implantation ionique ultra-précise de substrats pour une large gamme d'applications de semi-conducteurs, avec des fonctionnalités avancées qui permettent une analyse approfondie du substrat et un suivi du processus d'implantation. Les outils avancés de la machine permettent à l'utilisateur de contrôler avec précision et fiabilité les paramètres de configuration (y compris le courant d'implantation, le temps de séjour, la profondeur et la fluence) des ions implantés, ce qui permet une implantation des plus précises et efficaces et des résultats de la plus haute qualité. Au cœur de Exceed 3000 se trouve son design modulaire et adaptable. Il utilise un système multi-chambres qui peut accueillir jusqu'à quatre sources d'ions, chacune avec des propriétés différentes, permettant à l'utilisateur de personnaliser les opérations d'implantation et maximiser le débit et la productivité. La cellule offre en outre plusieurs innovations qui contribuent à ses performances élevées, telles qu'un puissant contrôleur de mouvement multi-axes pour une rotation concentrique rapide et précise, un système de focalisation des faisceaux haute tension et haut flux pour un balayage optimal du faisceau d'ions, et une ligne de retard pneumatique à haute énergie pour une distribution optimisée de l'énergie. NISSIN Exceed 3000 comprend également plusieurs composants avancés de surveillance et d'analyse pour la mesure et l'analyse méticuleuses du processus d'implantation ionique. Il peut détecter et surveiller la rétrodiffusion d'ions émis par le substrat pendant l'implantation, et une gamme de mesures de spectrométrie de masse d'ions secondaires (SIMS) peut être prélevée à la surface du substrat avant et après l'implantation. Ces analyses détaillées fournissent aux utilisateurs une rétroaction critique sur le processus d'implantation, leur permettant d'ajuster leurs paramètres d'implantation en conséquence. En outre, la machine peut mesurer le profil de profondeur du substrat avec une grande précision, fournissant un enregistrement précis du processus d'implantation. En conclusion, Exceed 3000 est un implant et un moniteur ionique de pointe qui offre des performances, une précision et un contrôle inégalés. Grâce à sa conception évoluée modulaire et adaptable, à son système avancé de focalisation des faisceaux et à ses outils complets de surveillance et d'analyse, la machine offre une solution complète et une plate-forme imbattable pour les tâches d'implantation ionique les plus exigeantes.