Occasion NOVA GEPM 17 #9233716 à vendre en France

ID: 9233716
System.
NOVA GEPM 17 est un implant ionique et un moniteur pour les industries de haute technologie. Il est conçu pour permettre l'implantation précise d'ions positifs dans des substrats tels que des plaquettes semi-conductrices de silicium. Cela fournit aux plaquettes d'excellentes caractéristiques électriques qui sont essentielles dans les technologies modernes. Le GEPM 17 est composé de plusieurs composants dont une source d'ions, un spectromètre de masse, un analyseur d'énergie, ainsi que plusieurs détecteurs. La source d'ions génère un faisceau d'ions qui sont accélérés dans le tube d'accélération. Le spectromètre de masse sépare ensuite et identifie les espèces des ions et mesure leur distribution d'énergie. L'analyseur d'énergie contrôle et modifie alors l'énergie cinétique de chaque espèce d'ions en fonction des paramètres définis par l'utilisateur. Enfin, les détecteurs mesurent la pression, le courant et la vitesse d'émission du faisceau d'ions. L'utilisateur peut configurer les paramètres d'exécution de NOVA GEPM 17 grâce à une interface logicielle intuitive. Ces paramètres comprennent le type d'ions, leurs énergies, le flux total, la forme du faisceau, la vitesse et la durée de production, la surveillance de l'alimentation électrique, la surveillance de la pression, ainsi que d'autres paramètres avancés. Grâce à ces paramètres, l'utilisateur peut précisément ajuster et contrôler le processus d'implantation de plaquettes de toute complexité. GEPM 17 peut également surveiller et enregistrer les données de processus en temps réel. Ces données comprennent la température et la pression du système, les lectures de courant des électrodes et la puissance du faisceau. Cela aide l'utilisateur à affiner le processus jusqu'à ce que les conditions optimales soient atteintes. De plus, il fournit un journal de chaque étape d'implantation qui peut être utilisé pour d'autres analyses et références. Dans l'ensemble, NOVA GEPM 17 est une solution d'implantation ionique très avancée, robuste et fiable. Ses caractéristiques, ses capacités de surveillance et ses logiciels conviviaux offrent une plate-forme complète et accessible pour le traitement des implantations, permettant aux industries de tirer profit de sa précision et de son efficacité.
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