Occasion NOVA T4500 #9233674 à vendre en France

NOVA T4500 est un implant ionique et un moniteur développé par Implant Sciences Inc. Il s'agit d'un implant et d'un moniteur de qualité industrielle conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. T4500 est capable de produire des ions de haute énergie avec des énergies allant de 10 à 5500 keV et des débits de dose jusqu'à 4x106 A/cm2. L'équipement a une plage de courant total du faisceau d'ions comprise entre 1 et 4 mA. NOVA T4500 est un ion d'écoulement continu implanter, qui signifie que les ions sont continuellement introduits dans le système à une fin et extraits ensuite de l'autre. Cela élimine la nécessité d'arrêter et de démarrer l'unité en continu, ce qui améliore le débit et réduit les coûts de maintenance. La machine a deux axes de commande de courant de faisceau et deux régions distinctes de commande d'énergie ionique. Ceci permet un contrôle précis du profil du faisceau d'ions, rendant l'outil capable de réaliser une implantation d'ions très uniforme. T4500 est équipé de matériel optique et électronique avancé conçu pour produire un niveau extrêmement élevé d'uniformité dans le courant et l'énergie du faisceau d'ions sur toute la largeur de la chambre. L'actif est également équipé d'un logiciel de profilage optique ionique très avancé qui permet de régler le profil du faisceau d'ions pour assurer un contrôle précis de la forme et de la taille du faisceau. NOVA T4500 est également équipé d'un modèle de surveillance complet qui permet de suivre et d'analyser les paramètres d'implantation des ions en temps réel. L'équipement de surveillance comprend des caractéristiques telles que le courant et l'énergie du faisceau, la dose totale, l'uniformité des doses, le courant de fuite et les données de température. Cela permet un contrôle précis et cohérent du processus d'implantation, et garantit que tous les implants sont cohérents et de la plus haute qualité. En plus de ses capacités d'implantation et de surveillance, T4500 est également équipé d'outils avancés de contrôle des processus et d'analyse des données. Ces outils permettent d'analyser le processus d'implantation en temps réel et de fournir des rapports détaillés du processus d'implantation, qui peuvent être utilisés pour combiner et corréler les changements dans les paramètres du processus avec les changements dans les implants. NOVA T4500 est un implant et un moniteur ionique avancé et hautement fiable, conçu pour être utilisé dans les environnements industriels les plus exigeants. Sa combinaison de matériel optique et électronique avancé, de capacités de surveillance et d'outils de contrôle des processus et d'analyse des données en fait une solution idéale pour les processus industriels d'implantation d'ions.