Occasion NOVA T500 #9233720 à vendre en France

NOVA T500 est un implant et un moniteur ionique avancé, utilisé pour la fabrication de circuits intégrés. Il est capable d'implanter à grande vitesse des ions indispensables à la fabrication de circuits intégrés. Il utilise un faisceau d'ions haute tension (HV) qui traverse une chambre à vide pour créer un faisceau d'ions qui est dirigé sur les plaquettes. Le faisceau d'ions est alors focalisé sur les substrats individuels. T500 utilise un équipement de contrôle programmable pour optimiser l'efficacité du processus d'implantation ionique. NOVA T500 utilise un système de balayage qui contrôle le faisceau d'ions en scannant la source et les cibles ; cela permet de diriger le faisceau avec précision à différents endroits du substrat. De plus, une unité de rétroaction est intégrée pour surveiller et contrôler les paramètres du faisceau tels que la taille, la forme, l'énergie et le courant. Ceci assure une bonne focalisation du faisceau pour un dépôt de matériau précis sur le substrat. T500 dispose également d'une chambre multi-zones, qui permet des doses d'implantation différentes en plusieurs endroits sur le substrat. Ceci permet un dépôt de matériau fin et uniforme sur toute la surface du substrat. De plus, NOVA T500 est équipé d'une chambre d'ionisation avancée qui assure une ionisation complète de la source d'ions avant le processus d'implantation. Cela permet une plus grande uniformité et précision du faisceau d'ions en termes de paramètres. T500 dispose également d'une machine de surveillance spécialisée, qui surveille les paramètres du faisceau et l'environnement du processus, afin de détecter toute variation ou anomalie. De plus, un outil de diagnostic en temps réel est utilisé pour détecter tout problème dans le fonctionnement de NOVA T500. Cela garantit une efficacité et une fiabilité maximales tout au long du processus d'implantation. T500 est un choix idéal pour la fabrication de circuits intégrés en raison de ses performances, précision et fiabilité supérieures. Il fournit une plate-forme puissante et fiable pour l'implantation d'ions avec une grande précision et uniformité. De plus, son outil de suivi spécifique garantit que le processus d'implantation est réalisé avec précision et efficacité, en fournissant des résultats optimaux.