Occasion SEN NV-10SD-80 #9181750 à vendre en France

SEN NV-10SD-80
ID: 9181750
High current implanter, 6".
SEN NV-10SD-80 est un implant et un moniteur ionique de pointe conçu pour fournir une solution efficace et fiable pour l'implantation ionique de haute précision. Il dispose de quatre sources d'ions implantées, la source principale étant une source d'ions quadrupolaire avec un courant maximal de 8mA, qui peut être utilisé pour l'implantation peu profonde jusqu'à une gamme de 80 keV. Le dispositif comporte également une source secondaire, qui est une source d'ions triode avec un courant de 1mA, et deux sources d'ions supplémentaires de type RF. NV-10SD-80 est capable de numériser et de programmer à grande vitesse la dose et les paramètres du faisceau d'ions, et fournit également une rétroaction en boucle fermée sur le courant, l'énergie et la dose du faisceau. Il utilise un manipulateur sous vide à 3 axes pour faciliter le chargement/déchargement des échantillons. En outre, SEN NV-10SD-80 est équipé d'un moniteur numérique pour le contrôle en temps réel du processus d'implantation. Ce moniteur offre une interface conviviale permettant à l'opérateur de configurer les paramètres d'implantation, ainsi que de surveiller et de contrôler les paramètres de courant, d'énergie et de dose du faisceau d'ions. Il dispose également d'un système de sécurité intégré qui permet un processus de mise en œuvre sûr et fiable. NV-10SD-80 garantit une précision et une précision de dose élevées grâce à ses codeurs de précision intégrés et à ses systèmes de contrôle à microprocesseur. Il dispose également d'une chambre source d'ions contrôlée par la température et d'une chambre basse dépression pour les porte-échantillons. De plus, le dispositif est équipé d'un système automatisé d'acquisition et d'analyse de données à grande vitesse qui permet de générer des résultats détaillés pour chaque échantillon. SEN NV-10SD-80 est conçu pour un large éventail d'applications dans les domaines de l'électronique, de la fabrication de semi-conducteurs et d'autres procédés industriels. Il peut être utilisé pour réaliser différents procédés d'implantation tels que le dopage au niveau du substrat, le dépôt en couches minces, les couches d'interfaçage et le traitement de surface. Dans l'ensemble, NV-10SD-80 est un implanteur et un moniteur ionique efficace et fiable qui fournit la précision et la précision nécessaires à la réussite des processus de mise en œuvre.
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