Occasion SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-80 #9268769 à vendre en France

SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-80
ID: 9268769
Taille de la plaquette: 5"
Ion implanter, 5".
SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-80 est un équipement d'implantation et de surveillance d'ions, conçu pour des applications impliquant l'implantation d'ions dans des matériaux tels que les semi-conducteurs, la céramique et les verres. Il dispose d'une précision et de performances extrêmement élevées et est adapté aux applications nécessitant une surveillance constante et un contrôle précis des caractéristiques de sub micron. Le système utilise une source d'ions pour générer des atomes ou des molécules chargés, qui sont ensuite implantés dans le matériau par un champ électrique, entraînant la formation de micro-caractéristiques. Ce processus est suivi par le processus de surveillance, où un microscope électronique et d'autres instruments sont utilisés pour mesurer les caractéristiques des sous-microns. Ces données sont ensuite utilisées pour ajuster les paramètres d'implantation et optimiser leurs performances. SEN NV GSD-80 dispose d'une implantation ionique haute performance avec un courant de faisceau maximal de 80mA et une énergie de faisceau fixe de 2.5keV. Il comprend un manipulateur X-Y, qui peut être utilisé pour régler la poutre selon deux axes indépendamment. Il dispose également d'une unité de transport automatique des plaquettes, qui est utilisée pour positionner et charger les plaquettes. L'unité de surveillance de la machine dispose d'une série d'instruments et de capteurs qui mesurent et surveillent les résultats du processus d'implantation. Il dispose d'un outil de microscopie électronique pour examiner les caractéristiques des sous-microns, ainsi que de plusieurs détecteurs, y compris des gobelets Faraday, des détecteurs de photodiode et des détecteurs d'ionisation d'impact. Il dispose également d'un atout de contrôle de faisceau, qui peut être utilisé pour ajuster le courant de faisceau, la taille du faisceau et la position du faisceau afin d'optimiser les résultats du processus d'implantation. Le modèle comprend également un spectromètre de masse de particules pour analyser les éléments et les isotopes du matériau avant et après implantation. Il comprend également un spectromètre dispersif d'énergie pour analyser la composition des matériaux et d'autres propriétés chimiques et physiques. L'équipement est équipé d'une unité de commande numérique qui permet à l'utilisateur d'ajuster les différents paramètres tels que le courant du faisceau, la profondeur d'implantation et l'énergie du faisceau. Il dispose également d'une interface réseau pour se connecter à un ordinateur et à d'autres réseaux, permettant l'accès à distance et le contrôle du système. Dans l'ensemble, SUMITOMO EATON NOVA NV GSD 80 est une unité avancée conçue pour implanter des ions dans des matériaux avec une grande précision et performance. Il dispose d'un implanteur ionique haute performance, d'un microscope électronique et d'un certain nombre de détecteurs et de capteurs qui sont utilisés pour surveiller les résultats du processus d'implantation. Il dispose également d'une unité de contrôle numérique pour ajuster divers paramètres, ainsi que d'une interface réseau permettant l'accès et le contrôle à distance.
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