Occasion SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-A-80 #293748591 à vendre en France

SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-A-80 est un équipement d'implantation et de surveillance d'ions conçu pour l'implantation précise et précise d'ions dans une grande variété de substrats. Le système est utilisé pour implanter des ions de tous types, y compris le bore, l'arsenic, le phosphore et d'autres pour créer des structures, telles que des MOSFET ou des couches d'achèvement de jonction, qui sont utilisées dans la fabrication de circuits intégrés. Le SEN NV-GSD-A-80 se compose de deux composants principaux, un support de substrat en plaquettes et un ensemble de canons. Le porte-substrat de la plaquette tient les substrats pour implantation et est apte à basculer le substrat pour obtenir une répartition uniforme des ions implantés. L'ensemble canon contient le résonateur et les sources d'énergie nécessaires pour accélérer les ions jusqu'au niveau d'énergie désiré avant leur mise à feu dans le substrat. Il contrôle également la taille de la tache focale des ions et les paramètres exacts de l'impulsion d'implantation, afin d'obtenir la plus grande précision de dopage possible. SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-A-80 utilise un logiciel de contrôle de faisceau pour surveiller et contrôler le processus d'implantation. Ce logiciel de contrôle/surveillance de faisceau fournit des informations sur le courant de faisceau, la longueur d'impulsion, la tension d'accélération et l'angle d'inclinaison du support de substrat de la plaquette entre autres. Il fournit également une rétroaction sur toute modification des paramètres du faisceau d'ions permettant une performance d'implantation optimale. L'unité dispose également d'une machine de communication sophistiquée, permettant la communication et le suivi du processus d'implantation sur un large éventail de réseaux, y compris Internet. NV-GSD-A-80 est un outil avancé pour une implantation ionique précise et des résultats de haute performance. Il est conçu pour offrir une disponibilité maximale avec un entretien minimal, tout en répondant aux exigences rigoureuses des systèmes de contrôle de processus modernes. En outre, sa conception robuste et ses fonctionnalités avancées permettent à l'utilisateur d'obtenir le meilleur contrôle de qualité et les meilleures performances des implants avec des coûts opérationnels réduits.