Occasion SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-HC3 #9131090 à vendre en France

SEN NV-GDS-HC3 est un système d'implantation et de surveillance ionique à trois axes développé par SUMITOMO EATON NOVA Corporation. Il est conçu pour implanter et surveiller précisément les ions dans les matériaux semi-conducteurs. La source de faisceau d'ions du NV-GDS-HC3 est constituée par un canon à ions multi-faisceaux capable de former un faisceau d'ions large ou des faisceaux d'ions séparés pour des injections multiples de faisceaux. La formation multifaisceaux est composée d'un canon à électrons, d'une spectrométrie de masse d'entrée séparée et d'une accélération ionique. Le canon à ions est conçu pour fournir des faisceaux d'ions purs à haute concentration qui présentent d'excellentes caractéristiques de semi-conducteurs. Le NV-GDS-HC3 est équipé d'un équipement de filtration de masse de recirculation multi-zones qui est utilisé pour séparer les ions désirés de la source d'ions. Le système de filtre massique de recirculation est composé d'un filtre massique à gaz qui sépare l'énergie et les charges ioniques, et d'un filtre massique de recirculation qui élimine les contaminants et les éléments indésirables. Pour surveiller avec précision le processus d'implantation d'ions, l'unité de détection du NV-GDS-HC3 mesure la position d'implantation, les espèces d'ions et les concentrations d'ions. Il utilise des techniques de surveillance optique pour déterminer les paramètres tridimensionnels de haute précision des cibles d'implants. En outre, la machine est équipée d'une fonction d'enregistrement des données qui enregistre toutes les données d'implantation et de surveillance pour l'analyse et la tenue des registres. Le NV-GDS-HC3 dispose également de l'outil limiteur de faisceau (BLS) qui peut contrôler avec précision la largeur, la forme et le pouvoir électronique du faisceau d'ions pour optimiser son uniformité afin d'améliorer son efficacité. Le BLS permet à l'utilisateur d'ajuster les paramètres du faisceau pendant le processus pour une précision accrue. Le Center Drive Asset du NV-GDS-HC3 fournit un mouvement symétrique de haute résolution à n'importe quelle direction qui permet à l'utilisateur d'implanter des motifs complexes qui nécessitent une plus grande précision par rapport à d'autres systèmes d'implantation. Le modèle permet également une sortie bipolaire maximale de 2mC/cm, ce qui convient pour des implants de grande surface pour de grandes quantités de circuits intégrés. En résumé, SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GDS-HC3 est un implant et un moniteur à trois axes conçus pour être utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs pour l'implantation et la surveillance précises. Le canon à ions multi-faisceaux, l'équipement de filtrage de masse, le système de détection, le limiteur de faisceau et la machine d'entraînement centrale fournissent une solution complète pour les exigences d'implantation les plus exigeantes.