Occasion SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-HE3 #9283245 à vendre en France
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Vendu
ID: 9283245
Taille de la plaquette: 12"
High energy implanter, 12"
(4) FOUP
Energy Range: 10 KeV to 3750 KeV with RTEM (Real Time Energy Monitoring Capability)
UPS: MUF3051-BL
Mass analysis magnet and power supply
Inject flag faraday
Power supply: 3 kW, 13.56 MHz
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
LIner Accelerator:
(12) High energy resonator cavities
(14) Quadrupole
Quadrupole Lens and power supply
Final energy magnet and power supply
Resolving faraday
Continuous variable aperature
IBM work station
End station wafer handling:
In-air/In-vacuum high throughput wafer handling system
ULPA filtered wafer handling area
Automatic notch alignment capability with buffer cassette
Integrated dummy wafer fill-in capability
Slot to slot wafer integrity
End station disk:
Two axis variable implant angle
(13) Wafers process disk with direct, 12"
End station dose control:
Real time patented dose control
End station robot: SEN MACOROB 300
End station options:
Valved RGA port on end station resolving
Valved RGA port on disk module
Faraday burn through sense
Facilities utilities:
Feed from bottom
Feed gas box exhaust from top
Facilities cables:
Remote cryo pump compressor cable
Rremote disk chiller cable
High voltage beacon
Main PD assembly
Signal tower light assy
(4) Light CE
Fire safety kit smoke detector
VESDA
60 Hz Standard
Gas box exhaust needs to feed from top
High Voltage Warning Display - English
Gas box:
Gas 1 type Gas box gas type position Ar with HP
Gas 2 type Gas box gas type position BF3 with SDS
Gas 3 type Gas box gas type position BF3 with SDS
Gas 4 type Gas box gas type position PH3 with SDS
Gas 5 type Gas box gas type position PH3 with SDS
MFC2 Unit 8160 10 ccm
MFC3 Unit 8162 5 ccm
MFC4 Unit 8162 10 ccm
MFC5 Unit 8162 10 ccm
Remote rack:
SEN chiller
Heater exchange from FAC
Service PC X-terminal
Door Bypass Switch:
Source head: ELS
3-AXIS Extraction electrode:
Vacuum Cryopump CP2 BROOKS OB-8
Vacuum Cryopump CP3 BROOKS OB-10
Vacuum Cryopump CP7 BROOKS OB-250F
Vacuum Cryopump CP8 BROOKS OB-250F
Vacuum STP-2203C TP1
Vacuum STP-A803C TP4
Vacuum STP-A1303C TP5
Vacuum STP-A803C TP10
Vacuum STP-A1303C TP11
Vacuum STP-A803C TP12
Manual included.
SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-HE3 est un équipement d'implantation et de surveillance ionique très avancé conçu pour la fabrication de nanostructures et la recherche sur les matériaux. Les principaux composants du système sont une source d'ions, une chambre d'accélération, un moniteur et des modules ASIC (Application Specific Integrated Circuit). La source d'ions de SEN NV-GSD-HE3 utilise une source double faisceau Opti-GSD (Gaz Stable Discharge) qui offre une large gamme de propagation d'énergie et de courant. Cela permet à l'utilisateur de contrôler précisément la distribution et le courant d'énergie ionique, faisant de SUMITOMO EATON NOVA NV GSD-HE3 l'unité idéale pour la fabrication de nanostructures de haute performance. La technologie Opti-GSD est encore améliorée par l'utilisation d'un moniteur double, qui fournit des informations supplémentaires sur la source. Cela permet une rétroaction en temps réel sur les performances de la source, rendant le NV GSD-HE3 à la fois fiable et facile à utiliser. NV-GSD-HE3 dispose également d'une chambre d'accélération avec une large gamme de tensions d'accélération variables, permettant un débit et une flexibilité élevés. Cela permet la production de nanostructures de meilleure qualité, avec un haut degré de précision. SEN NV GSD-HE3 dispose également d'un circuit intégré ASIC (Application Specific Integrated Circuit) qui offre des réglages de moniteur et de contrôle finement ajustés. Cela permet un contrôle et une surveillance précis de divers paramètres ioniques, y compris la vitesse du faisceau, le courant du faisceau, la forme du faisceau, le débit de dose et la dose ionique totale. Cette technologie fait de SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-HE3 l'outil idéal pour la recherche et le développement. En conclusion, SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV GSD-HE3 est l'atout parfait pour la recherche et le développement dans la fabrication de nanostructures et la recherche sur les matériaux. Il dispose d'une source ionique double faisceau Opti-GSD qui offre une large gamme d'étalages d'énergie et de courant, ce qui le rend idéal pour la fabrication de précision. Il dispose également d'une gamme de tensions d'accélération variables et d'un module ASIC pour le contrôle et la surveillance précis des paramètres ioniques, ce qui le rend polyvalent et fiable. De plus, son modèle de moniteur assure une rétroaction en temps réel sur les performances des sources, ce qui facilite l'utilisation de l'équipement. Dans l'ensemble, SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-HE3 est un excellent système pour la fabrication de nanostructures et la recherche de matériaux.
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