Occasion SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-MC3 #9144965 à vendre en France

SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-MC3 est un équipement d'implantation et de surveillance ionique utilisé pour le traitement avancé des semi-conducteurs. Il est conçu pour une implantation à faible courant et haute résolution et peut être adapté aux besoins d'une variété d'étapes de processus et de sources d'ions. Le système intègre un certain nombre de caractéristiques telles que la régulation de la température et de la pression, la modulation de l'énergie, le blocage du faisceau et l'intégration du courant pour garantir les meilleurs résultats du processus. SEN NV-GSD-MC3 est un implant ionique source de 20 cm avec une chambre de contrôle de 70 cm, permettant une large gamme de paramètres d'implants et de techniques de mise en œuvre. Il peut être utilisé pour créer à la fois une implantation de jonction peu profonde et profonde, ainsi que pour fournir une implantation à haute résolution à faible courant. L'unité comprend un moniteur ionique numérique pour assurer une dose et un confinement précis des ions. En plus de sa capacité à créer une large gamme de paramètres et de techniques d'implants, la machine est également équipée d'une alimentation haute tension, d'un régulateur de débit massique intégré et d'un outil de contrôle de la température et de la pression. Cela permet la plus grande stabilité et précision du processus, ainsi que le processus optimal d'implantation des implants. Une grande homogénéité et des distributions d'énergie contrôlables à travers la plaquette sont maintenues grâce à la mise en oeuvre de diverses techniques de blocage du faisceau, telles que la séparation ou la diffusion du faisceau. L'actif utilise également des algorithmes avancés pour contrôler la répartition homogène des températures du gaz dans le plasma, ce qui contribue à améliorer la stabilité et la productivité du processus. De plus, le modèle a la capacité d'intégrer le courant provenant de sources multiples, ainsi que de surveiller et d'analyser les faisceaux d'implants avec un moniteur ionique numérique. SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-MC3 est un équipement d'implantation avancé conçu pour fournir des performances et un contrôle avancés des implants. Il est adapté à toute une gamme d'applications, y compris l'implantation de jonctions peu profondes et profondes, ainsi que l'implantation à haute résolution à faible courant. Le système est conçu pour fournir une stabilité et une précision de processus optimales avec une variété de techniques de blocage du faisceau, de contrôle de la température et de la pression, et d'intégration du courant.