Occasion SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSDIII-180 #9244723 à vendre en France

SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSDIII-180 est un implant ionique et un moniteur conçu pour le dopage au niveau des plaquettes. Il fournit des paramètres d'implantation ionique précis et reproductibles pour divers matériaux de substrat. Le SEN NV-GSDIII-180 comprend une source d'ions contrôlée par ordinateur, deux commandes de canon indépendantes, un équipement de surveillance intégré et un système à vide élevé. SUMITOMO EATON NOVA NV GSDIII 180 utilise une source d'ions informatisée qui peut générer des faisceaux d'ions très précis avec une section et une forme optimales. La source d'ions est capable de balayer différentes zones de la plaquette. Il peut également impulser différentes zones de faisceau à la volée pour une implantation optimale. Les deux canons indépendants permettent un contrôle précis du processus d'implantation. Ces lignes peuvent être ajustées pour une variété de paramètres, y compris la taille des taches et l'énergie, ainsi que la température du substrat. L'unité de surveillance intégrée de SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV GSDIII 180 fournit une rétroaction en temps réel du profil de faisceau et de l'énergie du faisceau lors de l'implantation de la plaquette. Cette machine permet également aux utilisateurs de surveiller le processus au fur et à mesure qu'il se transpire, assurant des performances optimales. Un outil à vide élevé assure une stabilité supérieure de la chambre pendant le processus d'implantation ionique. Cet actif est conçu pour maintenir un vide inférieur à 1x10-6 Torr. Il protège également contre toute contamination ou dégradation de la chambre lors de l'implantation. Le NV GSDIII 180 est une solution idéale pour le dopage au niveau des plaquettes. Sa source d'ions contrôlée par ordinateur, ses deux canons indépendants, son modèle de moniteur intégré et son équipement à vide élevé en font une solution idéale pour créer des paramètres d'implantation ionique précis et reproductibles. Les clients peuvent être sûrs de la précision, de la précision et de la répétabilité de l'implant ionique et du moniteur SEN NV GSDIII 180.