Occasion SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV GSDIII-LE #293746345 à vendre en France

SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV GSDIII-LE (GSD3-LE) est un implant et moniteur ionique avancé récemment développé par Sumitomo Electric et Eaton Corporation. Cet équipement est le mieux adapté pour des processus d'implantation de haute précision et de faible niveau. Il utilise des technologies avancées de pointe telles que l'accélération de la composition multi-grille, le contrôle du faisceau et l'optique ionique de pointe. La polyvalence de GSD3-LE le rend idéal pour de nombreuses applications telles que les profils de spécification SEMI, le développement et la production de processus implants, le contrôle avancé des processus implants et l'implantation ultra-précise. En utilisant une source d'ions spécialement conçue, il peut atteindre des énergies de faisceau jusqu'à 30KV. La source peut également fonctionner avec des gaz Ar ou SF6 pour minimiser les temps d'arrêt de la source pour l'entretien. Le GSD3-LE permet une large gamme d'implants avec une précision de bas niveau et un contrôle de faisceau fiable. Sa source de transmission laser exclusive offre des taux de dépôt haut de gamme pour obtenir un contrôle précis de l'énergie et de la direction du faisceau sur toute la plage de balayage. La section d'accélération multi-grille fournit un profil d'implant stabilisé et linéaire, assurant ainsi des implants de haute qualité. Le système intégré de contrôle des installations permet un contrôle programmable facile et homogène de l'ensemble du processus d'implantation. Sa haute précision de surveillance du courant du faisceau de chaque implant avec une fonction de maintien automatique des plaquettes peut aider à réduire la variabilité des processus. Le GSD3-LE dispose également d'un diagnostic de faisceau qui permet aux ingénieurs et techniciens d'observer, d'étudier et d'analyser le comportement exact du faisceau pendant le processus intermédiaire ainsi qu'au début/arrêt des processus d'implantation. En résumé, SEN NV GSDIII-LE est un implant et moniteur ionique avancé adapté à des processus d'implantation de haute précision et de faible niveau. Ses technologies sophistiquées et sa conception lui permettent d'obtenir un contrôle précis des faisceaux et des profils d'implants très précis. Avec son système intégré de contrôle des installations et ses fonctions de diagnostic des faisceaux, il fournit une plate-forme fiable et facile à utiliser pour le développement et la production de processus d'implants.