Occasion SEN / SUMITOMO EATON NOVA RPD-PCS4 / LC-LG #293682133 à vendre en France

SEN/SUMITOMO EATON NOVA RPD-PCS4/LC-LG est un équipement sophistiqué d'implantation ionique utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour doper des plaquettes de silicium avec des ions dopants pour créer divers types d'appareils électroniques. L'implanteur ionique est un outil crucial pour introduire des éléments spécifiques dans le matériau semi-conducteur afin de modifier ses propriétés électriques et ses performances. L'implant Nova RPD-PCS4 ion est fabriqué par SEN Corporation en collaboration avec Sumitomo Eaton. Il dispose d'une technologie avancée d'implantation ionique conçue pour répondre aux exigences des installations de fabrication de semi-conducteurs à haut volume. Le système est équipé d'une gamme de fonctionnalités et de composants innovants pour garantir des processus d'implantation ionique précis et précis. Un des composants clés de l'implanteur d'ions Nova RPD-PCS4 est la source d'ions, qui génère le faisceau d'ions utilisé pour implanter des ions dopants dans le substrat de silicium. La source d'ions produit un faisceau d'ions de haute énergie qui est accéléré et dirigé vers la surface de la plaquette. L'unité comprend également une chambre d'implantation d'ions où le faisceau d'ions interagit avec la plaquette, conduisant à l'implantation d'ions dopants dans le matériau semi-conducteur. L'implanteur d'ions Nova RPD-PCS4 est capable d'implanter un large éventail d'ions dopants, y compris le bore, le phosphore, l'arsenic et d'autres éléments couramment utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. La machine est conçue pour assurer un contrôle précis de l'énergie, du courant et de la dose du faisceau d'ions, permettant des processus d'implantation d'ions hautement personnalisés et adaptés aux exigences spécifiques de chaque dispositif semi-conducteur. En plus du module d'implantation ionique, l'outil Nova RPD-PCS4 comprend un outil complet de contrôle des processus (PCS4) qui surveille et contrôle le processus d'implantation ionique en temps réel. Le modèle PCS4 permet aux opérateurs d'ajuster les paramètres du processus, de surveiller les caractéristiques du faisceau d'ions et d'assurer des résultats d'implantation ionique cohérents et fiables. L'implanteur d'ions Nova RPD-PCS4 est également équipé d'un équipement de surveillance laser (LC-LG) qui fournit une rétroaction en temps réel sur l'uniformité et la répartition du faisceau d'ions sur la surface de la plaquette. Le système de surveillance laser utilise un faisceau laser pour balayer la surface de la plaquette et détecter toute variation de l'intensité ou du positionnement du faisceau d'ions, ce qui permet aux opérateurs d'effectuer des ajustements immédiats pour optimiser le processus d'implantation. Dans l'ensemble, l'implant ionique SEN RPD-PCS4/LC-LG est un outil de pointe pour l'implantation ionique dans la fabrication de semi-conducteurs. Avec ses fonctionnalités avancées, ses capacités de contrôle précises et ses systèmes de surveillance en temps réel, la Nova RPD-PCS4 permet aux fabricants de semi-conducteurs de produire des appareils électroniques de haute qualité avec les caractéristiques et les performances électriques souhaitées. Sa fiabilité et son efficacité en font un outil essentiel pour la production de dispositifs semi-conducteurs avancés dans les installations modernes de fabrication de semi-conducteurs.