Occasion SUMITOMO KC-200A09 #9375864 à vendre en France

SUMITOMO KC-200A09 est un équipement d'implantation et de surveillance ionique haute performance conçu pour répondre aux dernières avancées dans les technologies ioniques. Il est spécialement conçu et conçu pour répondre aux exigences de la technologie de pointe, fournissant un outil efficace pour une large gamme d'applications d'implantation ionique. KC-200A09 peut être exploité avec une variété de valeurs de courant de faisceau, permettant aux utilisateurs de choisir le niveau d'énergie et la dose les mieux adaptés à leurs applications. Avec ses mécanismes de balayage à grande vitesse et ses capacités améliorées de traitement du signal numérique, le système offre une précision supérieure et une flexibilité maximale pour une large gamme de techniques d'implantation ionique. SUMITOMO KC-200A09 dispose d'une configuration unique de source ionique Dual-Table qui offre une précision et une stabilité exceptionnelles. La conception des sources à deux tables permet une uniformité uniforme du faisceau ionique et un positionnement de haute précision. En utilisant deux signaux d'actionnement indépendants, il assure également un positionnement précis et précis de l'échantillon sur la table d'implantation. Le module de moniteur de KC-200A09 améliore la stabilité et la précision du faisceau. Il dispose d'un circuit amplificateur de faisceau amélioré et d'une unité de délivrance de faisceau avancée pour contrôler avec précision l'ensemble des paramètres du faisceau d'ions. Il offre également aux utilisateurs une interface graphique facile à utiliser pour contrôler et ajuster les paramètres du faisceau pour des applications spécifiques. En outre, SUMITOMO KC-200A09 peut être interfacé avec un contrôleur supplémentaire pour les applications avancées de contrôle ou de surveillance. Le contrôleur peut être connecté à la source d'ions et au module de surveillance pour offrir une flexibilité accrue et des capacités de contrôle avancées. Dans l'ensemble, KC-200A09 est une machine avancée d'implantation et de surveillance d'ions qui offre une précision supérieure et une flexibilité maximale pour une large gamme de techniques d'implantation d'ions. Avec sa capacité améliorée de traitement du signal numérique, son positionnement de haute précision et sa configuration de source ionique Dual-Table, l'outil offre une meilleure stabilité et précision du faisceau. En outre, son interface graphique facile à utiliser et ses options de contrôleur supplémentaires offrent aux utilisateurs des capacités de contrôle et de surveillance améliorées.