Occasion ULVAC SMI-60H #293647824 à vendre en France

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ID: 293647824
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
Medium current hydrogen ion implanter, 12" DI Water circulator (2) Mass flow controllers (20) Transfer particles: ±0.2 µm Ion source head: H2+, 4He+ X-Ray leak rate: 0.6 µSv/h Gas supply line:H2 / He Gas bottle Vacuum pumping system: EBARA AA10N Dry pump SHIMADZU TMP803M Turbo molecular pump, 800 liter/sec SHIMADZU TMP1003M Turbo molecular pump, 1000 liter/sec Process chamber: SHIMADZU TMP3203M Turbo molecular pump, 3000 liter/sec EBARA AA10N Dry pump Turbo molecular pump 300 liter/sec Pirani vacuum gauge Ionization vacuum gauge End station (Transfer chamber / Process chamber) Substrate size: 230mm x 180 mm x 0.7 mm Vacuum transfer system: Vacuum transfer robot Platen: ESC Substrate scanning system: Y-Stage ATM transfer robot Clean unit (2) Rorze RV201-F05-004-1 Foup Opener Notch aligner: for 300 mm and 200 mm Conversion kit for 200mm / 300mm: Platen, cooling plate, L/L plate Vacuum robot pick-up Maximum beam current: 8mA at 60 keV at H2+ 8mA at 35 keV at He+ Beam current stability: ≤±10 % / hour Implant uniformity: ≤5% (Distribution of peak depth) Implant condition: H2+ , 60kV, 3.0E16 ions/cm Measurement condition: SIMS 5piont (Within wafer) Mass analyzing capability: H2+, 4He Substrate size: 230 mm x 180 mm Dose integrator capability: 1.0E15 –2.0E17 ions/cm² Wafer tilt angle: 0 to 60° (±1°) Metal contamination: Surface <5x1010/cm² (Fe, Ni, Cr, Zn, Cu by TXRF) Implant condition: H2+ ,60keV, 3.0E16 ions/cm² Ultimate pressure : Ion Source: 6.7x10-4 Pa(5.0x10-6Torr) Beam Line: 6.7 x 10-5 Pa(5.0x10-7Torr) Process chamber: 6.7 x 10-5 Pa(5.0x10-7Torr) Ion extraction system: Extraction power supply Extraction electrode Beam focusing system: Einzel-lens Power supply Mass analyzer magnet: Deflection Coil Magnet, 90° Power supply for magnet: 10V / 60A Analyzing slit Post acceleration system: Acceleration tube High voltage power supply Beam focusing system: Magnetic quadrupole lens Power supply Beam monitoring system: Pre-amplifier Dose monitor Control system: Computer End-station / Pumping control: Sequencer UPS For computer Energy range: 30keV to 70keV (for H2+) 30keV to 35keV (for He+) Spare parts: Ion source consumable parts Power: 35~60keV Dose: 1.0 x 10^15 ~ 2.0 x 10^17 H2+ions/cm² Max RP: ~600 nm Manuals included 2007 vintage.
ULVAC SMI-60H est un implant et un moniteur ionique de premier plan utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. C'est un outil performant qui fournit la plus grande précision d'implantation sur le marché. Il est conçu pour fournir des processus d'implantation ionique efficaces et de haute précision, avec une reproductibilité supérieure et un entretien minimal requis. SMI-60H utilise des technologies avancées de contrôle et d'accélération pour fournir un processus optimal d'implantation d'ions. Il est équipé d'un système de formage de faisceau de pointe qui permet une flexibilité maximale lors de la sélection du profil de faisceau, des champs électriques et magnétiques. Ce système permet des résultats d'implantation incroyablement précis, avec une fragmentation du faisceau négligeable. De plus, différents types d'ions peuvent être utilisés pour différents types de substrats et implants. L'interface utilisateur d'ULVAC SMI-60H est très intuitive et facile à utiliser. Les joueurs peuvent configurer rapidement des processus et des paramètres pour différentes implantations avec facilité. Il est également équipé de fonctions complètes d'analyse des matériaux pour garantir des résultats d'implantation optimaux. En outre, les fonctions de suivi exhaustif garantissent aux utilisateurs toutes les informations dont ils ont besoin pour optimiser le processus et améliorer la production du processus. SMI-60H est également livré avec un système de régulation de température intelligent, assurant que le substrat est chauffé à une température de traitement optimale. Ceci réduit le risque potentiel d'endommagement thermique du substrat. De plus, il maintient les particules implantées dans un environnement stable et sûr, assurant ainsi leur précision. ULVAC SMI-60H est conçu pour une sécurité et une fiabilité maximales, avec de nombreux systèmes de sécurité et capteurs en place. Cela permet aux utilisateurs de faire fonctionner l'appareil sans soucis, tout en effectuant l'implantation ionique avec un minimum de chances de défaillance de l'appareil. En outre, l'unité est conçue pour être très efficace, et avec sa configuration flexible, elle est capable de réduire le temps de cycle de processus, assurant ainsi une productivité maximale. SMI-60H est un implanteur et un moniteur ionique incroyablement puissant et fiable. Il utilise des technologies de pointe et des fonctionnalités qui permettent des processus d'implantation précis et précis, avec un minimum d'entretien requis. Grâce à son interface utilisateur intuitive, les utilisateurs peuvent rapidement et facilement configurer diverses implantations et surveiller les résultats. Les systèmes de sécurité complets garantissent une sécurité maximale aux utilisateurs et aux substrats. Toutes ces caractéristiques et technologies font d'ULVAC SMI-60H un choix idéal pour toute industrie de semi-conducteurs.
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