Occasion VARIAN 1216-04 #184083 à vendre en France

ID: 184083
Implanter westwind 1216-04, VARIAN E500.
VARIAN 1216-04 Ion Implanter & Monitor est un système d'implantation ionique haut de gamme utilisé pour implanter des ions dans un substrat. Il est fabriqué par VARIAN Semiconductor Equipment, Inc., et est l'un des implantateurs d'ions les plus populaires dans l'industrie des semi-conducteurs. Le système 1216-04 a été conçu pour l'implantation fiable et précise d'ions agressifs tels que le bore, l'arsenic, le gallium et le phosphore. Il est équipé d'une configuration unique de source de faisceau d'ions capable de créer des faisceaux homogènes à basse énergie qui sont essentiels pour les applications de dispositifs nécessitant des implants conformes et à bas seuil. En outre, son fonctionnement à haut rendement produit des faisceaux à haute énergie qui permettent un courant de sortie plus élevé et qui peuvent être ajustés rapidement en fonction des besoins de la tâche. En plus de ses capacités d'implantation ionique, VARIAN 1216-04 possède également des capacités de surveillance intégrées. Ce moniteur peut détecter les paramètres d'implantation, tels que le courant du faisceau et la dose, permettant aux utilisateurs de surveiller et d'ajuster les paramètres du processus pendant le processus d'implantation. En outre, le système peut détecter la dérive potentielle des paramètres d'implantation, ce qui permet aux utilisateurs de prendre des mesures correctives pour garantir la qualité et la précision du processus d'implantation. 1216-04 est l'un des systèmes les plus avancés dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est spécifiquement conçu pour des applications d'implantation ionique extrême et peut être utilisé pour une large gamme de matériaux. Il dispose de capacités efficaces de génération de faisceaux d'ions et de surveillance des processus, ainsi que d'une alimentation électrique stable pour garantir des résultats cohérents et de qualité. En outre, ses puissantes fonctions d'acquisition et d'analyse de données permettent une optimisation rapide et fiable des implants et des résultats.
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