Occasion VARIAN 160XP #9198478 à vendre en France

VARIAN 160XP est un système de pointe d'implantation et de surveillance des ions. Il est idéal pour les applications complexes de semi-conducteurs et contribue à optimiser la qualité d'une large gamme de matériaux semi-conducteurs. La machine fonctionne en envoyant un flux d'ions positifs, typiquement contrôlé par un accélérateur fixe au sein du système. Ces ions sont ensuite injectés dans un substrat, typiquement du silicium ou du germanium, à basse énergie. Il en résulte une quantité contrôlée de dopage au sein du substrat. Avec VARIAN 160 XP, il est possible d'atteindre des niveaux élevés de contrôle du dopage, car la tension d'accélération et le courant du faisceau peuvent être ajustés pour chaque implant. Ceci permet un meilleur contrôle et une plus grande précision dans le processus d'implantation. Afin de maximiser l'efficacité de l'implantation ionique, 160XP est conçu pour inclure le diagnostic et la surveillance intégrés des processus. Il dispose d'un moniteur de faisceau propriétaire qui fournit une rétroaction continue sur la précision et la performance du processus. Cela permet aux utilisateurs d'ajuster et de réadapter facilement les paramètres du faisceau d'implants ioniques pendant que leur expérience est toujours en cours, sans avoir à le répéter. En plus de ces fonctionnalités, 160 XP dispose d'un certain nombre d'outils et de logiciels utiles pour optimiser le processus. Il s'agit notamment de l'optimisation du débit de dose pour assurer des taux d'implantation optimaux, de la programmation automatisée des paramètres du faisceau pour maximiser le débit et des outils logiciels avancés pour la collecte de données. Le système comprend également des capacités de focalisation automatique, qui permettent à l'utilisateur de mesurer et d'ajuster avec précision la focalisation du faisceau d'ions. En général, VARIAN 160XP est un état de l'ion d'art implanter et du moniteur. Il est conçu pour un maximum d'efficacité et de précision, et dispose de logiciels avancés et de capacités de contrôle. C'est un choix idéal et fiable pour tout laboratoire travaillant avec un matériau semi-conducteur et nécessitant un dopage contrôlé.