Occasion VARIAN 160XP #9382645 à vendre en France

VARIAN 160XP
ID: 9382645
Style Vintage: 1989
High current implanter (4) CTI-CRYOGENICS Compressors CTI-CRYOGENICS Chamber cryo pump EDWARDS Source dry pump EDWARDS Beamline dry pump CTI-CRYOGENICS Beamline cryo pump VECTOR TECHNOLOGY Scrubber End station Power supply: 208 VAC, (5) Wires, 3-Phase 1989 vintage.
VARIAN 160XP est un implant ionique spécialisé dans le traitement des matériaux semi-conducteurs. Il permet un contrôle précis de la dose d'implant et du type d'ions utilisés. Il est capable d'implanter une grande variété d'ions dans le matériau semi-conducteur avec une excellente résolution et précision. VARIAN 160 XP fournit une gamme variable d'intensité de faisceau et de paramètres d'énergie, pour une implantation ionique contrôlée et cohérente avec précision. Il dispose d'un détecteur double faisceau unique, qui permet de mesurer simultanément le courant du faisceau et la position de l'échantillon. Ceci offre un contrôle et une surveillance pratiques de tous les paramètres de l'implant. L'unité fournit des mesures précises et complètes de l'énergie totale de l'implant et de la dose. 160XP dispose également d'un programme tridimensionnel contrôlé par ordinateur, permettant une plus large gamme d'options pour l'implantation de précision. Cela permet à l'utilisateur de modifier facilement des paramètres tels que le courant de faisceau, le type d'ions et le pas afin de modifier rapidement l'implantation. En outre, 160 XP dispose d'un autocontroller intégré pour des paramètres d'implantation optimaux, qui peuvent être ajustés en fonction de l'application souhaitée. VARIAN 160XP dispose d'une interface graphique interactive et facile à utiliser, ce qui le rend idéal pour une large gamme d'applications d'implantation, des implants à base d'oxyde aux implants complexes à semi-conducteurs composés. Il dispose de fonctions de diagnostic complètes, telles que le courant de faisceau intégré et le moniteur de dose, ce qui facilite plus que jamais l'analyse des paramètres et de la qualité des implants. VARIAN 160 XP est capable d'exécuter jusqu'à trois implants avec un seul faisceau d'électrons. Sa conception polyvalente lui permet également d'être intégré dans des systèmes d'implantation à sources d'ions multiples. Le dispositif est également flexible, permettant de réaliser des implants sur plusieurs échantillons avec des conditions d'implants variables. 160XP peut atteindre un très haut niveau de précision et de précision grâce à ses composants électroniques avancés et algorithmes logiciels avancés. Il a également un temps de réponse rapide, ce qui le rend beaucoup plus efficace pour surveiller les conditions d'implantation. 160 XP est un choix idéal pour l'implantation à haut rendement ainsi que des dispositifs complexes qui nécessitent un contrôle précis des paramètres de l'implant.
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