Occasion VARIAN 300XP #293829234 à vendre en France
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ID: 293829234
Taille de la plaquette: 5"-6"
Ion implanter, 5"-6"
Wheel
Wafer tilt: 7
Source: Beam
Extraction system: Copper pipe/bellow
Gases: BF3, Ar, PH3
SDS Gas box: High pressure
Maximum implantation energy: 120 Kev
Maximum Extraction voltage: 80 Kev
Cooling water pump
(2) Trays
AMU
Beamline column
Mechanical clamp
8 x 3 Cryo.
VARIAN 300XP est un implant et un moniteur ionique développé et construit par VARIAN, Inc. Il est largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour implanter des ions dans des matériaux à couches minces. Cet implant et moniteur ionique est conçu pour être extrêmement fiable et précis. VARIAN 300 XP utilise une combinaison de haute tension et d'énergie cinétique pour réaliser une implantation ionique précise et contrôlée. 300XP accélère les ions à des vitesses élevées et les injecte dans un film mince à une dose et un angle précisément contrôlés. Ceci permet une répartition plus lisse et plus uniforme des ions implantés, ce qui donne des résultats plus fiables et précis. 300 XP utilise une technologie de pompage différentiel unique pour aspirater toute la chambre de travail, créant un environnement propre et cohérent dans lequel implanter des ions. Cela réduit le risque de contamination et garantit des résultats précis et cohérents. VARIAN 300XP dispose également d'un système intégré de détection et d'acceptation des particules qui permet le rejet immédiat et basé sur le RCP des particules pendant l'implantation. Cela donne à l'utilisateur un plus grand contrôle sur le processus d'implantation et contribue à garantir les résultats de la plus haute qualité. VARIAN 300 XP dispose également d'un système de positionnement automatisé des plaquettes qui permet un positionnement et un placement précis des plaquettes. Cela réduit le temps et le coût associés à l'implantation et augmente la précision de chaque implantation. 300XP a été conçu pour être facile à utiliser et à entretenir. Cela le rend très efficace et rentable pour une variété d'applications. Il est capable de produire des résultats d'implantation ionique de haute qualité qui répondent aux exigences les plus strictes. En conséquence, c'est le choix le plus fiable et le plus fiable pour de nombreux fabricants de semi-conducteurs.
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