Occasion VARIAN 300XP #9232841 à vendre en France
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Vendu
ID: 9232841
Implanter, 3"-6"
Beam energy: 10-200keV (Extendable to 400keV with doubly charged ions)
Throughput:
250 Wafer per hour
With 10-second implant
Wafer breakage <1: 20000
Wafer cooling:
ΔT <100°C at 2.0 w/cm² (Air)
ΔT <100°C at 3.0 w/cm² (Helium)
Particulate count:
<0.15 Particles / cm² for particle size >0.5µ
<0.05 Particles / cm² for particle size >1.0µ
Wafer handling:
Cassette to cassette serial processing
Dual end stations
Full 100 wafer load
Vertical wafer handling
Cassette and slot integrity
Azimuthal wafer orientation
Implant angle 0° or 7° fixed.
VARIAN 300XP est un implant et un moniteur ionique haute performance conçu pour délivrer et surveiller des doses d'ions énergétiques dans un large éventail de gammes, d'énergies et d'états de charge. Ce système comprend un canon à ions de 100 cm de long et 2 cm de diamètre pour la production d'espèces d'implants, une ligne de faisceau étagée pour contrôler l'énergie du faisceau d'ions, ainsi qu'une chambre de surveillance intégrée et un détecteur pour la mesure de la dose et de l'état du faisceau. Le canon dispose d'une option de chauffage à haute puissance par radiofréquence (RF) pour augmenter l'énergie du canon et d'un collimateur multi-axes pour produire une large gamme de distributions de courant utilisables. La ligne de faisceau étagée utilise une optique à aimant permanent avec réglage électrique pour contrôler le faisceau d'implant de pleine énergie à quelques centaines de volts, et dispose d'un ensemble d'ouvertures magnétiques et électrostatiques pour produire une large gamme de tailles de faisceau du macro au sous-millimètre. La chambre de surveillance intégrée utilise l'optique électrostatique pour focaliser le faisceau d'implant au fur et à mesure de son passage, et une combinaison d'émissions d'électrons secondaires, de la tasse de Faraday et d'une chambre d'ionisation du gaz pour surveiller le courant du faisceau, le débit de dose et la dose totale. La chambre est modulaire et peut être utilisée sur différentes tailles de substrat et de plaquette. La chambre est conçue pour fournir une densité de courant élevée sans sacrifier la résolution, avec des dimensions de plaquettes simples jusqu'à 200 mm supportées. La chambre de moniteur comprend un logiciel avancé pour aider à contrôler le processus d'implantation, avec des options pour modifier manuellement les paramètres du faisceau pour correspondre aux résultats souhaités, ainsi que la télécommande du système et l'écriture du faisceau d'électrons. Le système comprend également un ensemble complet de fonctions de sécurité, avec des emboîtements matériels et logiciels pour assurer un fonctionnement sûr en tout temps. Le VARIAN 300 XP est un outil fiable et puissant pour la production d'implants ioniques de haute qualité, et sa chambre de moniteur intégrée et son logiciel le rendent idéal pour le contrôle de dose de haute précision et la surveillance du processus. La conception modulaire le rend adapté à la fois aux implants à grande échelle et aux applications de recherche de haute précision, tandis que ses caractéristiques de sécurité et son logiciel complet ajoutent de la tranquillité d'esprit et de la facilité de fonctionnement.
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