Occasion VARIAN 400-10 #9105618 à vendre en France
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ID: 9105618
High current ion implanters
(1) Cassette to cassette end station
(1) Research cube end station.
VARIAN 400-10 est un implant ionique et moniteur utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Il est utilisé pour introduire des particules à l'échelle atomique, telles que le bore, le phosphore et l'arsenic, dans des surfaces et des couches de matériaux semi-conducteurs. Cette technique appelée implantation ionique est utilisée pour créer des transistors, des diodes et d'autres dispositifs semi-conducteurs. Les composants de base de 400-10 comprennent une chambre source d'ions, un générateur de faisceau d'ions, un dispositif de balayage tridimensionnel, et une coupe Faraday. La chambre source d'ions abrite le matériau cible à implanter, ainsi que fixe l'énergie des ions. Le générateur de faisceau d'ions accélère les ions, ce qui leur permet de s'implanter dans le matériau ciblé. Le dispositif de balayage tridimensionnel est utilisé pour assurer une couverture uniforme de la zone désirée. La coupe Faraday détecte la quantité de courant traversant le faisceau d'ions et est utilisée pour mesurer la dose d'ions implantés. VARIAN 400-10 permet un contrôle précis du processus d'implantation. L'énergie et la dose des ions implantés peuvent être ajustées pour correspondre aux propriétés des matériaux ciblés. Le dispositif de balayage tridimensionnel permet une couverture précise de la zone désirée, assurant une profondeur égale des ions implantés. De plus, le fonctionnement du système peut être surveillé pour détecter d'éventuelles erreurs ou dysfonctionnements. 400-10 comprend également plusieurs caractéristiques qui permettent d'améliorer la sécurité et la fiabilité. Le faisceau d'ions est enfermé dans une chambre à vide pour éviter toute exposition à l'environnement. En outre, la machine est équipée d'un système d'alarme avancé, conçu pour alerter l'opérateur de tout danger potentiel. Dans l'ensemble, VARIAN 400-10 est un implanteur fiable et avancé, capable d'introduire avec précision des particules atomiques dans des cibles pour diverses applications de semi-conducteurs. Son contrôle précis sur le processus d'implantation, ainsi que ses caractéristiques de sécurité, en font un choix idéal pour les professionnels de l'industrie.
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