Occasion VARIAN 400-10 #9156375 à vendre en France

VARIAN 400-10 est un puissant implant ionique et moniteur conçu pour implanter des ions dans des dispositifs semi-conducteurs avec précision. L'implanteur ionique est capable de déposer des ions dans un large éventail de matériaux, y compris les métaux, les oxydes, les nitrures et les carbures. Le contrôle très précis du dispositif est assuré par les capacités de réglage rapide de ses trois composants primaires : la source d'ions, le filtre de masse et l'équipement de guidage du faisceau. La source d'ions de 400-10 est une source d'ions à décharge d'arc de grande puissance qui fournit des niveaux d'énergie élevés et une distribution uniforme des ions dans l'espace. Il a la capacité de diriger le faisceau d'ions jusqu'à 30 nm tailles taches. Le gaz de fond utilisé pour réaliser le faisceau d'ions peut être ajusté, ce qui permet un contrôle précis de la reproductibilité de l'implantation d'ions. Le filtre massique peut sélectionner la gamme d'ions à implanter, éliminant les indésirables du faisceau, permettant un réglage fin de la composition du matériau. Le système de guidage du faisceau fournit un champ électrique réglable pour guider les ions dans le matériau à des angles prédéfinis. L'unité offre une variété de caractéristiques qui aident à s'assurer que le processus d'implantation ionique est reproductible et précis. Ces caractéristiques comprennent le contrôle de l'énergie du faisceau, le contrôle dynamique de balayage du faisceau, des matériaux résistants au rayonnement et une alimentation électrique à faible bruit. La commande par faisceau modulé en impulsions permet d'assurer l'uniformité de la dose de l'implant, ainsi qu'un contrôle précis de l'angle d'implantation. La machine offre également une détection automatique de fin de dose qui permet d'assurer la vitesse exacte de l'implant. VARIAN 400-10 surveille également l'implantation ionique en temps réel, fournissant une vision constante de la position et de l'état du faisceau. Cela permet de surveiller l'énergie, le profil et le courant du faisceau, ainsi que la vitesse et le profil de l'implant. Les données recueillies auprès des moniteurs peuvent être utilisées pour confirmer l'exactitude des conditions d'implantation et s'assurer que le matériau a été correctement implanté. Dans l'ensemble, 400-10 est un implant et un moniteur ionique avancé qui fournit la précision, la précision et la reproductibilité nécessaires à une implantation réussie de dispositifs semi-conducteurs. Ses caractéristiques permettent un contrôle précis de la direction, de l'énergie et du profil du faisceau, permettant la composition de matériau idéale pour des applications spécifiques.