Occasion VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta 80 #9217499 à vendre en France

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ID: 9217499
Ion implanter No SMIFs or dry pumps Implant dose performance: Dose range: 2E12 - 1E16, (4E12 – 1E16 ions/cm2 - quad mode) Uniformity: ≥10 keV, 1 sigma ≤1.0% mean dose across wafer 500 eV to 10 keV, 1 sigma ≤1.5% mean dose across wafer Repeatability: ≥10 keV, 1 sigma ≤0.7% mean dose of wafers 500 eV to 10 keV, 1 sigma ≤1% mean dose of wafers Beam parallelism ±1º in X and Y axis for ≥10 keV drift Ion mass resolution: M/DeltaM > 60 FWHM Process angles: Tilt: ±45º; 2 axis; Programable in 1º steps; accuracy ±0.5º Orientation: 0 - 360º; programable in 1º steps; accuracy ± 1º Rotation: Equivalent multi-tilt, quad mode Wafer cooling: Gas cooled electrostatic platen 200mm < 100ºC @ 800 W beam power 300mm < 100ºC @ 1200 W beam power Particulate control: Frontside: ≤0.15 particles added/cm2@ ≥0.16μm particles Max throughput (wph): 200mm, 300mm Min 2 scans (4 passes): ≥250, ≥230 Wafer handling: Backside pick and place wafer orientation Load locks: (2) Independent cassette load locks FOUP/cassette buffer compatible – 4 SEMI E15.1-0298 load ports AGV compatible SMIF compatible Wafer breakage: MWBB 1:100,000 Metals contamination: Al < 50ppm of implanted dose Transition and heavy metals (Fe, Cr, Ni, Cu) < 5ppm of implant dose 1999 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80 est un implant et un moniteur ionique conçu pour contrôler avec précision l'introduction et l'élimination d'ions dans et hors des matériaux semi-conducteurs. Cet équipement de pointe fournit aux utilisateurs un outil fiable et très précis qui peut être utilisé pour créer des dispositifs semi-conducteurs haute performance à partir d'une variété de matériaux. AMAT VIISta 80 implanteur et moniteur ionique dispose d'un design robuste avec un système d'intervertissage intégré qui permet un fonctionnement rapide et sûr. Ce dispositif dispose également d'une option exclusive de fenêtre de faisceau d'électrons qui permet aux utilisateurs d'obtenir rapidement des profondeurs d'implant optimales pour leurs applications. VARIAN VIISta 80 utilise une multitude de fonctionnalités avancées pour garantir la précision et la précision maximales lors de l'implantation d'ions. Il est conçu avec des algorithmes sophistiqués qui permettent un ajustement adaptatif des débits d'implants ioniques, l'alignement du faisceau d'ions et les paramètres de processus. En outre, il dispose d'une unité avancée d'alignement des plaquettes qui est constamment surveillée pour la précision et la précision. Pour la surveillance, VIISta 80 utilise le profilage de faisceaux optiques en temps réel, qui fournit aux utilisateurs les mesures les plus précises sur les niveaux de concentration d'ions dans leurs matériaux. Cette puissante machine comprend également un viseur de faisceau amélioré qui permet aux utilisateurs d'analyser plus précisément les concentrations d'ions de leurs matériaux. MATÉRIAUX APPLIQUÉS VIISta 80 est équipé d'une gamme de mesures de protection et de sécurité pour minimiser les expositions à des niveaux dangereux de rayonnement et de choc électrique. De plus, l'appareil est conçu pour être entièrement conforme aux normes de sécurité de l'industrie. Dans l'ensemble, VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80 est un implant ionique avancé et un moniteur conçu pour fournir aux utilisateurs des performances et une fiabilité optimales lors de l'injection ou du retrait d'ions de matériaux semi-conducteurs. Cet outil robuste offre une gamme de fonctions de contrôle de précision, de mesures de sécurité et de moniteurs de faisceau pour garantir des résultats de la plus haute qualité et un environnement de travail sûr.
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