Occasion VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta 80 #9260239 à vendre en France

VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta 80
ID: 9260239
Ion implanter.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80 est un implant et un moniteur ionique de haute performance. Il est conçu pour fournir le plus haut niveau de précision et de précision pour l'implantation, une étape essentielle dans la fabrication de semi-conducteurs. AMAT VIISta 80 offre un large éventail de caractéristiques, notamment un positionnement haute précision des sources d'ions, une distance source-échantillon allant jusqu'à 20 cm, une large gamme d'énergies d'implantation d'ions, une source de plasma intégrée, des systèmes de refroidissement et de recréation avancés et un ensemble de surveillance des processus in situ. VARIAN VIISta 80 est construit sur une plate-forme d'automatisation industrielle avancée qui permet un fonctionnement efficace avec une large gamme de fonctionnalités de pointe. Le système de positionnement de la source d'ions permet un positionnement de haute précision de la source d'ions par rapport à l'échantillon, permettant une homogénéité exemplaire du matériau implanté. La distance source-échantillon jusqu'à 20 cm offre aux utilisateurs une flexibilité sans précédent dans le choix de l'implantation ionique. En outre, la machine offre une grande variété d'énergies d'implantation ionique, permettant un fonctionnement avec une gamme étendue de matériaux et d'applications. VIISta 80 intègre une source de plasma RF intégrée capable de produire des températures allant jusqu'à 5.000 K, augmentant considérablement la vitesse et la précision d'alimentation des ions de l'échantillon. La machine est équipée d'un système de refroidissement et de recréation en deux étapes, assurant un fonctionnement cohérent et une utilisation efficace de l'énergie. En outre, un ensemble de surveillance in situ avancé assure des performances et des retours continus du processus d'implantation, permettant une compréhension technique du fonctionnement de l'implant et favorisant une meilleure qualité d'implantation et une productivité accrue. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS VIISta 80 est la machine idéale pour effectuer une implantation ionique de haute précision avec une précision et une efficacité inégalées. Sa plate-forme d'automatisation avancée, son large éventail d'énergies d'implantation ionique, sa source de plasma intégrée et son système de refroidissement et de recréation des réacteurs en deux étapes en font le choix optimal pour les fabricants de semi-conducteurs. En outre, son kit de suivi in situ fournit des retours en temps réel sur le processus d'implantation, permettant un contrôle exceptionnel et une assurance qualité.
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