Occasion VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta PLAD T2 #9203300 à vendre en France

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ID: 9203300
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
High dose implanter, 12" Single wafer plasma doping system (2) VIISta PLAD process modules Plasma implant voltage range: 200V to 10kV Using precision pulsed DC supply Programmable ramped wafer bias for optimum dopant profile control High density plasma generation Control system Real-time magnetically suppressed Faraday closed loop dose control system Electrostatic wafer platens With He backside gas cooling Automated pressure control system Base system includes Power distribution: 50/60 Hz VIISta single-wafer end station & tool control Dual wafer capacity: 25 Polished load locks Independent vacuum control High voltage power supply drivers Uninterruptible power supply Transport module vacuum chamber Dual vacuum robots Horizontal motion control Backside pick-and-place wafer handling Orientation & centering station Automatic pumping system: (2) PFEIFFER 1201 Turbo-molecular pumps One per process module (2) PFEIFFER 261 Turbo-molecular pumps Remote rack assembly: Plasma power supply drivers Deionized water recirculation system Power distribution panel to support all controllers & sub-systems Remote cabling ten meters Rack space for mechanical dry pumps VCS Runs on the Microsoft Windows NT / Windows 2000 Multitasking operating system Process gas control module Standard 4 channel gas module including three toxic One inert gas 5 Channels per process module System I/O: VARIAN control system SEMI S2-0200 & S8-0701 compliant VIISta factory automation S-series buffer with 4 load ports Direct-drive atmospheric robot & thru-beam mapping capability Facilities from bottom Factory automation kit brooks S-series EFEM With vision loadports Operation: 60 Hz Gas box: 5 Channels per chamber Process gas input from the bottom: 5 Channels Left process chamber for CH4 left process chamber for CH4 Right process chamber for AsH3/PH3 Configure system for right chamber to run AsH3 and PH3 process Label kit POC UHP Roof Standard remote module T2 15m remote harness Hose kit T2 15m remote harness T2 15m remote hose kit 2007 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISTA PLAD T2 est un équipement d'implantation et de surveillance ionique de pointe conçu et fabriqué par l'un des principaux fournisseurs mondiaux d'équipements semi-conducteurs. Il dispose d'un système intégré unique d'implantation sous vide capable de produire des doses d'implantation ionique homogènes et efficaces. AMAT VIISta PLAD T2 dispose d'une unité logicielle entièrement automatisée qui permet d'obtenir des profils d'implantation précis pour pratiquement toutes les applications. La machine offre un moniteur de profil de faisceau intégré avec une large gamme de capacités de mesure, permettant aux clients de surveiller étroitement le processus d'implantation, assurant la sécurité, le rendement du dispositif, et l'optimisation du processus. VARIAN VIISta PLAD T2 offre une plateforme entièrement personnalisable pour répondre aux besoins d'une large gamme de processus d'implantation. Il peut prendre en charge l'intégration avec d'autres systèmes AMAT, tels que les scanners pour les outils de surveillance, les moniteurs d'épaisseur de film ionique et les contrôleurs de température. MATÉRIAUX APPLIQUÉS VIISta PLAD T2 dispose d'un outil d'imagerie haute résolution à 360 °. Cet atout permet d'atteindre le plus haut niveau de profils d'implantation tout en garantissant des résultats précis et reproductibles. VIISta PLAD T2 comprend également une armoire de commande avancée avec un modèle d'alimentation intégré offrant une stabilité, une précision et une fiabilité inégalées. Les moniteurs VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISTA PLAD T2 disposent d'un meilleur contrôle des processus et de capacités alarmantes en temps réel, ainsi que d'une intégration avec d'autres systèmes pour une automatisation accrue. De plus, l'équipement intègre la technologie de source d'implant compact brevetée, qui est conçue pour améliorer la géométrie des implants, réduire la dérive et améliorer l'uniformité des processus. Le système fournit également aux utilisateurs une large gamme de capacités de surveillance, d'adaptation et d'analyse pour mesurer la forme du faisceau et les fluctuations afin de confirmer le fonctionnement optimal de l'unité à tout moment. En résumé, le VIISta PLAD T2 est une machine de pointe d'implantation et de surveillance ionique de VARIAN. Il offre une plate-forme entièrement personnalisable avec surveillance intégrée du profil de faisceau, contrôle des processus et des capacités alarmantes, imagerie haute résolution et alimentation intégrée. En outre, il dispose de la technologie source d'implant compact qui est conçu pour améliorer la géométrie des implants, réduire la dérive et améliorer l'uniformité des processus. Toutes ces fonctionnalités s'associent pour créer un outil de pointe qui peut fournir des résultats d'implantation précis et reproductibles de manière efficace et efficiente.
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