Occasion VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta PLAD T2 #9203300 à vendre en France
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Vendu
ID: 9203300
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2007
High dose implanter, 12"
Single wafer plasma doping system
(2) VIISta PLAD process modules
Plasma implant voltage range: 200V to 10kV
Using precision pulsed DC supply
Programmable ramped wafer bias for optimum dopant profile control
High density plasma generation
Control system
Real-time magnetically suppressed Faraday closed loop dose control system
Electrostatic wafer platens
With He backside gas cooling
Automated pressure control system
Base system includes
Power distribution: 50/60 Hz
VIISta single-wafer end station & tool control
Dual wafer capacity: 25
Polished load locks
Independent vacuum control
High voltage power supply drivers
Uninterruptible power supply
Transport module vacuum chamber
Dual vacuum robots
Horizontal motion control
Backside pick-and-place wafer handling
Orientation & centering station
Automatic pumping system:
(2) PFEIFFER 1201 Turbo-molecular pumps
One per process module
(2) PFEIFFER 261
Turbo-molecular pumps
Remote rack assembly:
Plasma power supply drivers
Deionized water recirculation system
Power distribution panel to support all controllers & sub-systems
Remote cabling ten meters
Rack space for mechanical dry pumps
VCS Runs on the Microsoft Windows NT / Windows 2000
Multitasking operating system
Process gas control module
Standard 4 channel gas module including three toxic
One inert gas
5 Channels per process module
System I/O: VARIAN control system
SEMI S2-0200 & S8-0701 compliant
VIISta factory automation
S-series buffer with 4 load ports
Direct-drive atmospheric robot & thru-beam mapping capability
Facilities from bottom
Factory automation kit brooks S-series EFEM
With vision loadports
Operation: 60 Hz
Gas box: 5 Channels per chamber
Process gas input from the bottom: 5 Channels
Left process chamber for CH4 left process chamber for CH4
Right process chamber for AsH3/PH3
Configure system for right chamber to run AsH3 and PH3 process
Label kit
POC UHP Roof
Standard remote module
T2 15m remote harness
Hose kit T2 15m remote harness
T2 15m remote hose kit
2007 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISTA PLAD T2 est un équipement d'implantation et de surveillance ionique de pointe conçu et fabriqué par l'un des principaux fournisseurs mondiaux d'équipements semi-conducteurs. Il dispose d'un système intégré unique d'implantation sous vide capable de produire des doses d'implantation ionique homogènes et efficaces. AMAT VIISta PLAD T2 dispose d'une unité logicielle entièrement automatisée qui permet d'obtenir des profils d'implantation précis pour pratiquement toutes les applications. La machine offre un moniteur de profil de faisceau intégré avec une large gamme de capacités de mesure, permettant aux clients de surveiller étroitement le processus d'implantation, assurant la sécurité, le rendement du dispositif, et l'optimisation du processus. VARIAN VIISta PLAD T2 offre une plateforme entièrement personnalisable pour répondre aux besoins d'une large gamme de processus d'implantation. Il peut prendre en charge l'intégration avec d'autres systèmes AMAT, tels que les scanners pour les outils de surveillance, les moniteurs d'épaisseur de film ionique et les contrôleurs de température. MATÉRIAUX APPLIQUÉS VIISta PLAD T2 dispose d'un outil d'imagerie haute résolution à 360 °. Cet atout permet d'atteindre le plus haut niveau de profils d'implantation tout en garantissant des résultats précis et reproductibles. VIISta PLAD T2 comprend également une armoire de commande avancée avec un modèle d'alimentation intégré offrant une stabilité, une précision et une fiabilité inégalées. Les moniteurs VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISTA PLAD T2 disposent d'un meilleur contrôle des processus et de capacités alarmantes en temps réel, ainsi que d'une intégration avec d'autres systèmes pour une automatisation accrue. De plus, l'équipement intègre la technologie de source d'implant compact brevetée, qui est conçue pour améliorer la géométrie des implants, réduire la dérive et améliorer l'uniformité des processus. Le système fournit également aux utilisateurs une large gamme de capacités de surveillance, d'adaptation et d'analyse pour mesurer la forme du faisceau et les fluctuations afin de confirmer le fonctionnement optimal de l'unité à tout moment. En résumé, le VIISta PLAD T2 est une machine de pointe d'implantation et de surveillance ionique de VARIAN. Il offre une plate-forme entièrement personnalisable avec surveillance intégrée du profil de faisceau, contrôle des processus et des capacités alarmantes, imagerie haute résolution et alimentation intégrée. En outre, il dispose de la technologie source d'implant compact qui est conçu pour améliorer la géométrie des implants, réduire la dérive et améliorer l'uniformité des processus. Toutes ces fonctionnalités s'associent pour créer un outil de pointe qui peut fournir des résultats d'implantation précis et reproductibles de manière efficace et efficiente.
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