Occasion VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta PLAD #9359237 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9359237
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
Ultra high dose plasma implanter, 12" 2008 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISTA PLAD est un implant ionique avancé et un moniteur utilisé pour la fabrication de semi-conducteurs. C'est un outil utilisé pour contrôler le dopage des matériaux semi-conducteurs en créant des motifs de charges électriques à des niveaux de précision très élevés. La mise en oeuvre d'AMAT VIISta PLAD prend une variété de matériaux semi-conducteurs et les implante avec certaines doses d'ions pour créer des motifs de canaux électriques prédéterminés qui produisent ensuite des dispositifs tels que des transistors ou des diodes. Le profil des ions que VARIAN VIISta PLAD peut utiliser comprend, sans s'y limiter, du bore, de l'azote, de l'arsenic, du phosphore et du silicium qui sont tous utiles de diverses manières pour diverses applications. MATÉRIAUX APPLIQUÉS VIISta PLAD dispose de multiples outils et moniteurs d'implantation ionique qui sont tous conçus pour augmenter la cohérence de la couche de l'appareil, réduire les coûts et maintenir les performances de l'appareil. L'un des principaux outils de VIISta PLAD est l'équipement de régulation de l'énergie et des angles (EACS). L'EACS permet une sélection précise de l'énergie ionique et des distributions angulaires qui sont essentielles pour un large éventail de niveaux de dopage. Il est également capable de régler l'énergie d'accélération, le débit de dose et la taille du faisceau. Un autre outil principal de VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISTA PLAD est le Beam Scanning System (BSS) qui utilise efficacement tous les angles de balayage du faisceau. Cette unité permet également un fonctionnement de haute précision et des motifs pour obtenir diverses doses sur de grandes surfaces. AMAT VIISta PLAD est également équipé d'un certain nombre d'outils technologiques supplémentaires tels qu'une machine d'atténuation de gaz, une interface d'injection pour différents types de gaz, un outil d'alignement de source d'ions, un mandrin électrostatique, et une variété de sources d'ions. Ces outils travaillent ensemble pour aider à maintenir une opération stable dans le temps et assurer la précision et la fiabilité du processus de dopage. Dans l'ensemble, VARIAN VIISTA PLAD d'AMAT est un outil d'implantation et de surveillance ionique très avancé et sophistiqué. Il peut contrôler avec précision et précision le dopage des matériaux semi-conducteurs pour créer des modèles de charges électriques spécifiques, tout en maintenant les coûts et le temps de traitement bas.
Il n'y a pas encore de critiques