Occasion VARIAN CF 3000 #9242115 à vendre en France

ID: 9242115
Ion implanter AGILENT VHS-4 Diffusion pump Gas box with (3) sources of admixtures in the form of BF3, PH3 & AsH3 gases in praxair up-time system, horiba massometers Power source (3) ADIXEN Rotary pump Compressor with (2) cryoplex & (8) OXFORD pumps Hycool wheel Freeman source DI Water station: Transition from freon cooling to cooling with de-ionized water Scanners from IBS cooled with air Range of energy: <20keV to >120keV Range of dose: 2e11 cm^-2 to 6e15 cm^-2.
VARIAN CF 3000 Ion Implanter & Monitor est un système d'implantation et de surveillance ionique révolutionnaire développé par VARIAN, Inc. C'est l'implant ionique le plus avancé au monde, capable d'offrir une flexibilité, une fiabilité et des performances maximales dans un design compact. C'est un appareil multi-source, multi-cible qui est conçu pour être rentable, avec des paramètres facilement et rapidement réglables. Le dispositif est équipé d'une source d'ions unique pour le contrôle indépendant des paramètres spécialisés d'implantation d'ions. Cette source a une plage de courant de faisceau de 1-10mA et une plage d'énergie de faisceau de 0-7 000 eV, permettant un contrôle précis de chaque processus d'implantation. Sa densité de courant de faisceau peut aller jusqu'à 600A/cm ², ce qui lui donne la capacité d'effectuer de larges gammes de processus d'implantation. Cette source est conçue pour fournir des processus d'implantation courants plus élevés à des temps de séjour plus courts pour plus de précision pendant les applications avec des paramètres critiques. VARIAN CF3000 est livré avec un design de moniteur moderne pour mesurer rapidement et avec précision les paramètres du substrat au fur et à mesure de l'évolution du processus d'implantation. Le moniteur est capable de mesurer des paramètres tels que la profondeur de l'implant, la température du substrat, les courants et énergies du faisceau d'ions, la taille du substrat, etc. Le moniteur a une faible empreinte et une plage de profondeur étendue qui lui permet de s'adapter à l'intérieur d'une petite chambre à vide, économisant un espace précieux dans le laboratoire. Le système est équipé d'une plate-forme active qui est conçue pour un mouvement ultra-lisse de la plaquette en 6 axes, y compris le mouvement horizontal, vertical, de rotation et d'inclinaison. Ceci est contrôlé par une interface logicielle conviviale et intuitive qui permet une manipulation aisée du substrat de la plaquette. Il dispose également d'un contrôle de température de haute précision et d'un système de refroidissement actif pour garantir des résultats cohérents et précis. CF-3000 a également une conception compacte avec une alimentation électrique intégrée, aidant à économiser des espaces de laboratoire précieux ainsi que réduire les coûts d'exploitation. L'appareil est conçu pour être sans entretien pendant des années d'utilisation fiable, avec un cycle de vie prolongé qui garantit la précision et la productivité à long terme. CF3000 est idéal pour les environnements de laboratoire où un contrôle précis des paramètres d'implantation est nécessaire, comme dans les domaines de la fabrication de semi-conducteurs et de la recherche et du développement. C'est un appareil idéal pour ceux qui recherchent une implantation économique et polyvalente avec un maximum de précision et de contrôle.
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