Occasion VARIAN CF5 #9210374 à vendre en France

ID: 9210374
Ion implanter CTI Cryo pump AMU Meter Research end station Flow: Cassette to cassette Oxygen and SiF Platens for heat / LN2 Wafers (3) WELCH 1397 Mech pumps THERMO NESLAB Recirculating chiller (2) Bernas sources 200kev.
VARIAN CF5 est un appareil d'implantation et de surveillance ionique construit par VARIAN Semiconductor Equipment, qui fait partie du groupe VARIAN. VARIAN CF-5 offre une gamme complète d'outils et de capacités pour le traitement avancé de l'implantation ionique. CF 5 dispose d'une source d'impact électronique de haute énergie, de courant de faisceau élevé et de haute précision pour l'implantation ionique. Il est équipé d'un contrôleur haute performance, d'un puissant environnement de fonctionnement des implants vitrés orienté énergie et d'une ligne de faisceau robuste conçue pour traiter une variété de matériaux. En outre, CF5 offre des fonctions avancées de contrôle des processus qui permettent aux utilisateurs d'obtenir des résultats pour faire face à une variété d'exigences d'implants. CF-5 a une capacité de 60-150KV énergie d'implant et 1-500uA courant de faisceau, ainsi qu'une large gamme de capacités d'accord de faisceau de source pour créer des implants de qualité optimale. De plus, VARIAN CF 5 offre également des capacités de contrôle de dose très précises, avec des pressions comprises entre 0,001 et 1 mTorr. Couplé avec un, système de calibrage de pression à la dose de haute précision sophistiqué, VARIAN CF5 est capable de produire des fournées extrêmement conséquentes d'implants. De plus, le mode d'uniformité de VARIAN CF-5 est conçu pour assurer une distribution uniforme de la dose et de l'énergie, tout en maintenant l'uniformité de la dose, de l'énergie et de l'intensité du faisceau. Le module peut également obtenir des paramètres de positionnement et d'alignement extrêmement précis pour un contrôle rigoureux de l'implantation. Le moniteur ionique avancé de CF 5 est conçu pour assurer une surveillance en temps réel des paramètres du processus tels que la taille de la buse, la distance entre la buse et l'échantillon et l'énergie injectée, tout en ajustant continuellement pour obtenir des résultats optimaux. Le moniteur est livré avec une interface graphique intuitive, des capacités complètes d'enregistrement du système, et des données traçables pour assurer la surveillance la plus précise possible. En résumé, CF5 est un implant et un moniteur ionique de haute qualité conçus pour fournir aux utilisateurs une gamme complète d'options pour leurs processus d'implantation ionique, ainsi que des capacités de contrôle de dose très précises couplées à un étalonnage haute précision de la pression à la dose. En outre, CF-5 dispose également d'un moniteur ionique avancé pour la surveillance des processus en temps réel, et d'un système de données traçables pour assurer les résultats les plus précis possible.
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