Occasion VARIAN DF4 #9161508 à vendre en France

VARIAN DF4 est un implant ionique et un moniteur utilisé pour détecter une implantation ionique précise. Il s'agit d'un implanteur de haute puissance conçu pour améliorer la fiabilité et la cohérence du processus d'implantation dans l'industrie des semi-conducteurs. L'équipement utilise un générateur RF haute tension, Accélérateur et composants de ligne de faisceau pour permettre des courants élevés jusqu'à 150mA et des énergies jusqu'à 32 keV pour les ions lourds. Ces composants créent un système d'auto-équilibrage de propagation du faisceau qui assure la précision dans les faisceaux dynamiques pour une précision et une répétabilité maximales. L'unité supporte des ions tels que le soufre, l'azote, le bore, le phosphore et l'arsenic, et peut fonctionner avec des biais DC et RF de 1MHz & 500kHz. Le générateur RF permet de choisir un large éventail de conditions d'implantation pour optimiser le processus d'implantation ionique. De plus, le générateur RF est capable d'incorporer un interrupteur RF Bias qui ajuste activement la tension RF Bias pendant le processus d'implantation pour optimiser les conditions d'implantation. Les capacités à haut débit de DF4 en font également une solution rentable pour de nombreux procédés de production de semi-conducteurs. La machine permet une dose élevée d'implant jusqu'à 40 um/min pour les régions ciblées et peut fonctionner avec une gamme de différents types de pression et de gaz. Cela permet une utilisation dans une variété de procédés de production de semi-conducteurs. VARIAN DF4 comprend un artisanat robuste et de haute qualité qui améliore son utilité et sa durabilité. Il est doté d'un design ergonomique composé de plusieurs points de montage et pieds réglables pour assurer une utilisation sûre de l'appareil sur une variété de substrats. La ligne de faisceau supporte un courant de poutre max de 18 nA et est faite de matériaux robustes de qualité sous vide pour une longévité maximale du dispositif. L'outil comprend un outil de surveillance avancé capable de surveiller en permanence et de créer des rapports sur le processus d'implantation pour un contrôle précis de tout environnement de production. Le modèle de surveillance comprend un équipement de contrôle du vide qui surveille tous les paramètres de vide tels que la pression, la température et le débit de gaz. Cela fournit une rétroaction en temps réel à l'opérateur pour assurer l'exactitude du processus d'implantation. Le système de surveillance peut également rendre compte des paramètres de configuration de la source d'ions, de la ligne de faisceau et de la cible. Dans l'ensemble, DF4 est un implant ionique polyvalent et fiable, parfait pour des processus d'implantation ionique précis dans le domaine de la production de semi-conducteurs. Son unité de surveillance avancée et de génération RF fournit une rétroaction en temps réel pour des processus d'implants précisément contrôlés et reproductibles. Sa construction robuste et ses pieds réglables rendent l'appareil idéal pour tout environnement de production et ses capacités de débit élevées permettent une solution rentable aux besoins d'implantation ionique.