Occasion VARIAN Disk for 160XP #9412733 à vendre en France

VARIAN Disk for 160XP est un implant et un moniteur ionique innovant. Il est conçu pour des processus d'implantation ionique semi-conducteurs exigeants et est capable d'un fonctionnement ultra-précis et à haut débit. Le processeur 2D avancé de l'équipement et le système d'imagerie 3D à rayons X intégré lui permettent d'effectuer les processus d'implantation ionique les plus délicats tout en surveillant le processus d'implantation en temps réel. Le 160XP dispose d'un générateur E -Beam, capable de délivrer jusqu'à 1.5kW de puissance, permettant l'implantation simultanée avec des courants et des tensions plus élevés que les technologies concurrentes. Le logiciel de lithographie avancé de l'unité maintient les doses requises d'électrons et d'ions en tout temps pendant le processus d'implantation, avec une précision et une précision exceptionnelles. VARIAN technologie unique de mise au point d'induction céramique dirige les ions avec une extrême précision, obtenant un meilleur contrôle sur le processus d'implantation et améliorant la répétabilité du processus. La machine de focalisation améliorée optimise encore les paramètres du faisceau tels que le profil et la dose, fournissant une performance d'implantation améliorée en un seul lot. Un système avancé d'imagerie par rayons X permet une vue 3D complète des échantillons implantés. L'outil est capable de surveiller simultanément le processus d'implant en temps réel, tout en suivant sa dosimétrie, ce qui permet d'optimiser les paramètres d'implant reproductibles. L'actif d'imagerie avancée permet également la détection automatisée des espèces implantées, permettant l'optimisation des processus en même temps. Le 160XP peut être intégré avec les systèmes de données de laboratoire et l'unité de traitement hôte pour une flexibilité supplémentaire, permettant le contrôle et la surveillance des opérations d'implants à partir de sites éloignés. Le modèle est conçu pour offrir des implantations ioniques ultra-précises et à haut débit, ce qui le rend idéal pour la fabrication de semi-conducteurs.