Occasion VARIAN E1000 #158386 à vendre en France

VARIAN E1000 est un implant et un moniteur ionique, hautement capable de réaliser des profils d'implantation ionique précis pour les opérations de recherche et de fabrication de semi-conducteurs les plus exigeantes. VARIAN E-1000 est conçu pour implanter des ions à des niveaux élevés de champ électrique et de fluence nécessaires à l'incorporation dans une gamme de matériaux. L'implanteur présente une grande reproductibilité de la distribution de l'énergie du faisceau, des profils de fluence et surveille la sensibilité aux niveaux d'énergie. L'équipement peut être adapté aux espèces d'ions implants de charge positive ou négative allant de l'hydrogène à l'uranium, tandis que les gammes d'énergie et de courant du faisceau permettent d'atteindre une gamme variée d'énergies et de doses d'implants. Grâce à une optique de faisceau efficace, le système E 1000 peut produire des faisceaux d'espèces et d'énergies strictement définies avec une répétabilité élevée sur les substrats supérieure à la limite de conception de 12 pouces. Le courant du faisceau est réglable sur une large plage et maintenu à un niveau stable pendant l'implantation. VARIAN E 1000 possède une unité d'analyse et d'imagerie du faisceau pour la caractérisation des espèces implantées. Cette machine contient une microbalance en cristal de quartz pour mesurer le courant ionique ainsi qu'une coupe de Faraday dont le mode de fonctionnement montre le courant du faisceau avant et après l'intervalle d'accélération. Le profil d'implantation est surveillé in situ par un détecteur à double collecteur (DCD) innovant. Le DCD peut mesurer les deux ions avec une plage d'énergie allant jusqu'à 40KeV et les électrons jusqu'à 1MeV. Cet outil de pointe permet non seulement d'ajuster le profil d'implantation, mais aussi de surveiller les paramètres et conditions optimales au cours du processus. E-1000 est conçu avec des systèmes de contrôle de la rétroaction autosurveillants pour garantir la plus grande précision et précision de dose implantée. L'actif de contrôle de rétroaction utilise une cage Faraday dans le cadre du modèle de formation et de détection du faisceau pour augmenter la résolution et la précision tout en réduisant le débit de dose et la variation de propagation de l'énergie. Ceci permet de maintenir en permanence le débit de dose et la propagation d'énergie désirés pendant l'implantation. Les composantes d'équipement E1000 incluent une source de rayon, un accélérateur de particule, un système d'optique de rayon, un détecteur de collectionneur double, le courant de rayon d'ion l'analyseur et l'unité de formation de rayon. La machine comprend également une interface automatique de fenêtres pour faciliter le fonctionnement. Cet outil élimine les frais généraux d'avoir des opérateurs supplémentaires pour le processus d'implantation, ce qui réduit encore le coût de propriété. VARIAN E1000 est un atout multiforme pour une implantation ionique de haute précision, efficace et reproductible qui sert un large éventail d'applications. Les caractéristiques avancées et innovantes de ce modèle ont permis aux chercheurs et aux fabricants de l'industrie des semi-conducteurs de développer même les projets les plus complexes pour une application commerciale. Avec la flexibilité de sa conception et une grande précision et précision de ses résultats, VARIAN E-1000 est la solution idéale pour les besoins d'implantation modernes.