Occasion VARIAN E1000 #200760 à vendre en France

VARIAN E1000 est un implant ionique de haute précision et un moniteur conçu pour une utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs. Il combine une ligne de faisceau, une source d'ions, une instrumentation de diagnostic de faisceau et un équipement de balayage de faisceau à haute résolution en une seule machine compacte et offre un contrôle de processus de bout en bout. L'implanteur utilise une source d'ions montée verticalement pour générer des faisceaux d'ions, et les ions accélérés sont ensuite dirigés vers la plaquette cible à travers un système de transport de faisceaux en ligne. La performance ionique est optimisée grâce à l'utilisation de sources d'ions d'émission sur le terrain, d'alimentations RF, de spectrométrie de masse, de balayage par faisceau à haute résolution et d'instruments avancés de surveillance du faisceau. VARIAN E-1000 dispose d'un implanteur à deux étages et d'un faisceau à haute résolution de 0,5 à 50 keV. L'unité est capable d'implanter diverses espèces d'ions à fort courant jusqu'à un maximum de 200mA et est équipée d'instruments de diagnostic de faisceau avancés et de technologie de direction de faisceau. Il est également conçu pour effectuer un traitement monobloc à haut débit, avec une uniformité de courant et un excellent contrôle de l'angle et de la dose de l'implant. E 1000 dispose d'un écran intégré à écran plat et d'une interface utilisateur intuitive, permettant un accès facile à tous les aspects de la configuration de la machine. Des algorithmes avancés de traitement du signal - tels que ceux utilisés pour la détection de taches de faisceau et la compensation du courant - sont également disponibles, garantissant des performances précises et précises des implants. Pour une protection supplémentaire pendant le fonctionnement, E-1000 est équipé d'un outil de verrouillage de sécurité, arrêt de la poutre et protection contre les surintensités. VARIAN E 1000 est un choix idéal pour le traitement des dispositifs semi-conducteurs en raison de son instrumentation de diagnostic de faisceau avancée, son interface conviviale et ses caractéristiques de sécurité. L'implant et le moniteur ionique de haute précision de la machine peuvent être utilisés pour une large gamme d'applications d'implantation ionique, ce qui en fait la solution idéale pour une grande variété de procédés de fabrication de semi-conducteurs.