Occasion VARIAN E1000 #9054294 à vendre en France

VARIAN E1000 est un implant ionique et un moniteur conçu pour une implantation précise et à haut débit d'ions à forte dose dans des plaquettes semi-conductrices. L'implanteur peut être utilisé pour doper efficacement des plaquettes avec du gallium, du silicium, du phosphore et d'autres ions pour faire varier les caractéristiques électriques de la plaquette. Son équipement de surveillance des faisceaux haute résolution permet un contrôle précis du dosage et de la distribution des ions pour obtenir des résultats électriques optimaux. VARIAN E-1000 commence par une chambre source pour charger les sources d'ions. Il existe trois sources distinctes, qui travaillent ensemble pour scanner toute la surface de la plaquette. Les trois sources sont une source d'ions à faisceau unique, une source d'ions à faisceau fendu et une source d'ions multifaisceaux. La source à faisceau unique est destinée à une implantation homogène sur une grande surface, tandis que les sources à fente et multi-faisceaux sont utilisées pour une implantation structurée ou une implantation dans de petites régions. Le module accélérateur délivre alors le faisceau d'ions à la chambre d'ionisation. Cette chambre est spécialement conçue pour confiner le faisceau d'ions et assurer une grande précision d'implantation. Il est équipé de plusieurs caractéristiques, telles que des collimateurs de faisceau et des balayages de faisceau, ainsi que d'un moniteur ionique équivalent pour enregistrer le nombre exact d'ions qui ont été implantés. Une fois les ions implantés, la plaquette est déplacée vers la chambre de dépôt amorphe. Cette chambre permet le dépôt de couches non conductrices à la surface de la plaquette, améliorant les caractéristiques électriques de la puce. Enfin, E 1000 comporte une chambre de contrôle des plaquettes pour le contrôle des puces implantées. Cette chambre est équipée d'un système d'inspection de surface laser pour vérifier les caractéristiques électriques des puces dopées, ainsi que d'un microscope optique pour visualiser les détails fins des caractéristiques sur les puces. Globalement, E1000 est une unité d'implantation et de contrôle extrêmement puissante, précise et fiable, capable de contrôler avec précision l'implantation de fortes doses d'ions dans des plaquettes semi-conductrices. Ses différentes caractéristiques et chambres fournissent un débit élevé, machine précise pour la fabrication de semi-conducteurs dopés.