Occasion VARIAN E1000 #9214217 à vendre en France

VARIAN E1000 est un appareil d'implantation et de surveillance ionique conçu et fabriqué par VARIAN Semiconductor Equipment Associates (VSEA). Il s'agit d'un accélérateur électrostatique, capable d'implanter des ions de divers matériaux dans des substrats plats ou courbes, tels que des plaquettes. Le dispositif a été conçu pour fournir une méthode précise, fiable et rentable de contrôle d'un processus d'implantation ionique. VARIAN E-1000 se compose de deux composantes principales : la source d'ions et le moniteur de faisceau d'ions. La source d'ions est composée d'une source d'ions sans diaphragme qui est capable de produire des faisceaux de haute intensité et de basse énergie. Le dispositif est équipé d'un courant variable qui permet de varier les courants de faisceau et les énergies ioniques, permettant un contrôle précis du processus d'implantation. Le moniteur de faisceau d'ions est un spectromètre de masse quadrupolaire qui mesure le flux et l'énergie du faisceau d'ions, ainsi que la rétroaction pour le contrôle du processus. En plus de ces composants, E 1000 a une variété d'autres fonctionnalités conçues pour améliorer les performances du processus. Ceux-ci comprennent un interrupteur de destruction de faisceau, des moniteurs de stabilité de tension, et un système de rétroaction du courant de faisceau pour permettre une implantation ionique cohérente. De plus, le dispositif est fortement automatisé, permettant un fonctionnement sans surveillance et une intégration dans des systèmes de production automatisés. En termes d'implications, VARIAN E 1000 améliore considérablement la précision et la fiabilité des processus d'implantation ionique. Il est idéal pour une utilisation dans la fabrication de semi-conducteurs, assurant un contrôle précis de l'implantation qui serait autrement difficile à réaliser. En utilisant le dispositif, les processus d'implantation peuvent être réalisés sans intervention manuelle, ce qui réduit considérablement les coûts opérationnels. Par ailleurs, le dispositif est également capable de détecter des contaminations et autres impuretés dans le processus d'implantation, permettant un meilleur contrôle de la qualité. Dans l'ensemble, E1000 est un implant ionique et un moniteur avancés et fiables. Il fournit une méthode simple, économique et précise de contrôle des processus d'implantation, permettant à la production de devenir plus efficace et fiable. Ce dispositif est idéal pour la fabrication de semi-conducteurs et continuera probablement à devenir un élément essentiel de l'industrie.