Occasion VARIAN E1000172 / E1000173B #9163521 à vendre en France

L'implant et le moniteur d'ions VARIAN E1000172/ E1000173B est un équipement de pointe conçu pour implanter précisément des ions dans un matériau, tel que des plaquettes semi-conductrices. Il est capable d'implanter efficacement des ions le long de n'importe quel substrat afin de créer des profils de dopage, des caractéristiques physiques et des valeurs électromagnétiques désirés. E1000172/ E1000173B est équipé d'une source de faisceau d'ions, d'un équipement d'analyse d'énergie et d'une unité de commande informatique. La source de faisceau est accélérée par un champ électromagnétique et est ensuite passée à travers un écran vers la station d'analyse. Là, des ions de différents rapports charge/masse sont identifiés et séparés en faisant varier l'intensité du champ électrique. Après sélection, le faisceau est séparé en deux parties, l'une pour l'implantation et l'autre pour le contrôle de l'énergie des ions implantés. L'ordinateur de commande régule alors l'intensité du faisceau pour s'assurer que la dose d'ions est précise et répétable sans compromettre la précision. Le moniteur permet un contrôle précis de la dose d'ions grâce à une mesure simultanée précise du faisceau d'ions courant et du matériau implanté. Les paramètres de l'implant tels que le courant, la propagation d'énergie, les espèces ioniques et l'angle d'incidence peuvent tous être ajustés en fonction du matériau implanté et des caractéristiques souhaitées qui doivent être atteintes. Un système de contrôle automatisé est utilisé pour surveiller en permanence ces paramètres et effectuer les ajustements nécessaires à l'optimisation des processus. VARIAN E1000172/ E1000173B dispose également d'une unité de surveillance ionique pour s'assurer que les débits de charge implantés restent conformes aux paramètres prédéterminés. La machine est conçue pour détecter les niveaux de rayonnement dangereux et arrêter immédiatement le faisceau si nécessaire. De plus, un outil d'interception de sécurité sous vide est utilisé pour empêcher les particules d'endommager l'actif. Dans l'ensemble, E1000172/ E1000173B est une technologie fiable utilisée pour une large gamme d'applications d'implantation ionique. Il est conçu pour assurer une implantation ionique rapide, efficace et précise. Son modèle de contrôle avancé garantit que les charges implantées restent conformes aux paramètres prédéterminés pour des résultats optimaux.