Occasion VARIAN E1000HP #187202 à vendre en France

ID: 187202
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1994
Implanter, 8" Non-SMIF Jar type S6 Motor Gas type: CGA Type:B+ SDS:AS+ SDS:P+,AR+ Beam line Turbo Pump Type: Leybold Compressor Type: CT8600(2ea) Utiliy Supply: Top Faraday: PFG Angle: Auto Soucre Assembly type: Cusp source Y2K Status Completion: Yes Below pumps are not included: 1) Terminal Dry Pump 2) Chamber Dry Pump 3) Chamber Cryo Pump Installed in clean room Powered off 1994 Vintage.
VARIAN E1000HP est un équipement d'implantation et de surveillance ionique qui utilise la technologie d'implantation ionique unique VARIAN. Il est utilisé dans une variété d'industries et d'applications, car il est capable de produire et de contrôler des ions de haute énergie pour une grande variété d'applications, telles que pour le dopage et l'optimisation des masques dans la fabrication de semi-conducteurs, pour la modification de surface des métaux, et pour l'analyse de faisceaux d'ions. C'est le dernier ajout à la gamme VARIAN d'implantateurs ioniques, qui ont été conçus au cours des dernières décennies pour fournir des systèmes d'implantation fiables et performants. Le système VARIAN E1000 HP est un implanteur à haut courant et à haute énergie conçu pour une large gamme d'applications. Il est capable de délivrer des doses comprises entre 0,1 et des dizaines de kilocoulombes, avec un courant de faisceau de 0,1 à 300 nanoampères et des énergies de faisceau de 0,01 à 12 MeV. Il a une conception optique optimisée du faisceau qui permet à l'utilisateur d'ajuster rapidement la distribution d'énergie du faisceau, et son unité avancée de transport du faisceau assure une implantation de haute précision. En outre, E-1000 HP a été conçu avec un collecteur et un détecteur d'ions annulaires intégrés, ainsi qu'une plate-forme de diagnostic avancée qui aide les opérateurs à garantir une performance optimale du dispositif. E1000 HP est fortement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs, car il est capable d'implantation ionique très fiable et uniforme. Il est également adapté pour des applications où l'implantation de doses plus faibles et de dommages plus faibles est souhaitée. Il est capable de produire des profondeurs de dopage très précises, telles que celles nécessaires à un contrôle efficace du dopage dans les dispositifs CMOS typiques. Il est également utilisé pour l'optimisation des masques, où il aide à peaufiner les dimensions critiques d'un dispositif sans causer de dégradation significative à des profondeurs peu profondes. E1000HP a été conçu en fonction de ses performances dans un cadre industriel. Il dispose d'une interface d'automatisation intégrée, qui lui permet d'être interfacé avec des systèmes informatiques de haut niveau et des installations de collecte de données, ce qui le rend facile à mettre en œuvre dans les systèmes de fabrication de semi-conducteurs existants. Il offre également une large gamme de caractéristiques de sécurité, permettant aux clients de profiter du niveau de protection dont ils ont besoin pour leur machine. VARIAN E-1000 HP s'est avéré être un outil d'implantation efficace et fiable pour une grande variété d'applications, et il est sûr d'être un atout important pour les installations de fabrication pour de nombreuses années à venir.
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