Occasion VARIAN E11000090 #9110058 à vendre en France

VARIAN E11000090 est un implant et un moniteur ionique de haute performance. Il fonctionne en déposant des atomes sur le substrat de manière contrôlée et précise, en créant un mince film de matériau aux caractéristiques souhaitées. E11000090 peut être utilisé dans un large éventail d'industries, y compris la fabrication de semi-conducteurs, les applications métallurgiques et la recherche médicale. VARIAN E11000090 est un appareil puissant qui peut délivrer des doses d'ions jusqu'à 500keV en un seul milligramme. Il possède une source d'ions de forte puissance qui utilise un émetteur d'arc pour produire des ions qui sont injectés dans le substrat. Un réseau d'aimants aide à guider les ions vers leur destination. La dose peut être ajustée dans une large gamme, de 100µC/cm2 à 10nC/cm2. Le processus d'irradiation ionique est surveillé par un moniteur ionique numérique, qui peut détecter la présence et la quantité d'ionisation à chaque point du chemin. E11000090 dispose également de dispositifs de sécurité intégrés, tels qu'un obturateur tournant pour protéger l'opérateur de la trajectoire du faisceau d'ions, et un système de verrouillage pour couper l'alimentation de la machine si une condition de fonctionnement dangereuse est détectée. En outre, le dispositif est équipé d'un générateur d'impulsions numériques et d'un moniteur d'impulsions pour réguler la dose d'ions pour la précision. VARIAN E11000090 est un appareil précis et à faible bruit qui se distingue parmi les autres implantateurs et moniteurs d'ions. Il fournit des conditions d'implantation stables et une précision améliorée, permettant des résultats meilleurs et reproductibles. Sa technologie de pointe permet également de réduire la contamination du substrat et d'obtenir des rendements plus élevés lors de l'implantation. Dans l'ensemble, E11000090 a été conçu avec le matériau et le processeur d'appareil à l'esprit, pour fournir un puissant, haute performance ion implanter et moniteur. Il est fiable, précis et robuste, offrant des résultats améliorés avec un minimum de déchets. Cela en fait le choix idéal pour la fabrication de semi-conducteurs et les opérations métallurgiques, ainsi que pour les applications de recherche médicale.